主要功能與優(yōu)勢
用于敏感基材的PEALD
SENTECH SI PEALD系統(tǒng)具有真正的遠程等離子體源,，可在低溫<100°C）下對敏感基材和層進行均勻和保形涂層的涂層,。 在樣品表面提供高通量的反應(yīng)性氣體種類，而沒有紫外線輻射或離子轟擊,。
原子層沉積 （ALD） 用于精確,、保形和均勻的沉積
原子層沉積技術(shù)的特點是能夠沉積保形和均勻的薄膜，并在原子水平上精確控制厚度,，并繼續(xù)在半導(dǎo)體器件中發(fā)揮越來越大的作用,，例如高介電原理材料的沉積,。原子層沉積的一些主要應(yīng)用包括傳感器、光電子學(xué)和 2D 材料,。
用于工藝開發(fā)和優(yōu)化的原位診斷
AL 實時監(jiān)測器的原位診斷可實現(xiàn)單個 ALD 周期的超高分辨率,。其優(yōu)點是確認(rèn)原子層沉積（ALD）制度，縮短處理時間,，并降低總擁有成本,。光譜橢圓偏振儀也作為原位診斷提供，為我們的原子層沉積系統(tǒng)具有特定的優(yōu)勢,。
反應(yīng)器清潔簡單
定期清潔反應(yīng)器對于穩(wěn)定和可重復(fù)的原子層沉積處理至關(guān)重要,。在用于清潔我們的原子層沉積系統(tǒng)的提升裝置的幫助下，可以很容易地打開反應(yīng)器室,。
集群集成
原子層沉積系統(tǒng)可作為SENTECH集群工具的模塊使用,。我們的原子層沉積系統(tǒng)可以與SENTECH PECVD和蝕刻系統(tǒng)結(jié)合使用，用于工業(yè)應(yīng)用,。集群工具可選地具有盒到盒加載功能,。
手套箱系統(tǒng)集成
SENTECH ALD系統(tǒng)與不同供應(yīng)商的手套箱兼容。
靈活性和模塊化
SENTECH 原子層沉積系統(tǒng)允許將不同的熱和/或等離子體增強原子層沉積膜組合成多層結(jié)構(gòu),。熱和等離子體增強原子層沉積 （PEALD） 支持在一個具有最佳快門的反應(yīng)器中,。
SENTECH使用AL實時監(jiān)測儀以及寬范圍光譜橢圓偏振儀，對逐層薄膜生長進行的,、超快速的原位監(jiān)測,。
SENTECH 原子層沉積系統(tǒng)可實現(xiàn)熱和等離子體增強操作。我們的原子層沉積系統(tǒng)可以配置為氧化物,、氮化物,、二維材料沉積。3D結(jié)構(gòu)可以均勻和保形涂層,。憑借 ALD,、PECVD 和 ICPECVD，SENTECH 提供等離子體沉積技術(shù),，用于沉積納米級至幾微米的薄膜,。
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