1. 產(chǎn)品概述
ELEDE® 380系列 芯片刻蝕機,,優(yōu)良的等離子體發(fā)生裝置,適用多種材料刻蝕,,工藝窗口寬,。
2. 設(shè)備用途/原理
優(yōu)良的等離子體發(fā)生裝置,適用多種材料刻蝕,,工藝窗口寬,。多片式托盤,實現(xiàn)高產(chǎn)能,,同時確保優(yōu)異的刻蝕均勻性,。全路徑全真空,全自動晶圓傳輸,,顆??刂苾?yōu)。工藝套件設(shè)計,,更長的耗材壽命,。
3. 設(shè)備特點
晶圓尺寸4、6 英寸及特殊尺寸,。適用材料 藍寶石,、氮化鎵、氧化硅 / 氧化鈦,、砷化鎵,、磷化鎵、鋁鎵銦磷,、氧化硅,、氮化硅,、鈦鎢,、有機物。適用工藝 PSS 刻蝕,、電刻蝕、深槽隔離刻蝕,、介質(zhì)反射層(DBR)刻蝕,、紅黃光刻蝕、鈍化層刻蝕,、金屬阻擋層刻蝕,。適用域化合物半導(dǎo)體。