1. 產(chǎn)品概述
Scaler HK430 熱原子層沉積系統(tǒng),，填孔能力以及良好的薄膜均勻性,。
2. 設(shè)備用途/原理
Scaler HK430 熱原子層沉積系統(tǒng),，填孔能力以及良好的薄膜均勻性,，腔室結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì),，具備良好的防酸腐蝕能力，優(yōu)化機(jī)臺(tái)結(jié)構(gòu),，縮小占地面積,。友好的人機(jī)交互和安全性設(shè)計(jì)保障系統(tǒng)穩(wěn)定,、安全、高效。
3. 設(shè)備特點(diǎn)
晶圓尺寸 12 英寸,，適用材料 氧化鉿,、氧化鋯,、氧化鋁，適用工藝 柵介質(zhì)層,、介質(zhì)層、鈍化層,，適用域 科研、集成電路,、優(yōu)良封裝。原子層沉積（Atomic layer deposition）是一種可以將物質(zhì)以單原子膜形式一層一層的鍍?cè)诨妆砻娴姆椒?。原子層沉積與普通的化學(xué)沉積有相似之處。但在原子層沉積過(guò)程中,，新一層原子膜的化學(xué)反應(yīng)是直接與之前一層相關(guān)聯(lián)的，這種方式使每次反應(yīng)只沉積一層原子,。
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