一、高真空互聯(lián)物理氣相薄膜沉積系統(tǒng)概述：

沉積系統(tǒng)可用于制備光學薄膜,、電學薄膜,、磁性薄膜、硬質(zhì)保護薄膜和裝飾薄膜等,，工藝性能穩(wěn)定,、模塊化結(jié)構(gòu)，采用行業(yè)頂尖的軟件控制系統(tǒng),；4英寸鍍膜區(qū)域內(nèi)片內(nèi)膜厚不均勻性：≤±2.5%,，8英寸鍍膜區(qū)域內(nèi)片內(nèi)膜厚不均勻性：≤±3.5%，測定標準以Ti靶材,，濺射200——500nm厚薄膜,，邊緣去5mm，隨機5點取樣測定為準,。

樣品托面中心到地面的高度約1360mm,；

鍍膜材料適用于：Au、Ag,、Pt,、W、Mo,、Ta,、Ti、Al、Si,、Cu,、Fe、Ni,、氧化鋁,，氧化鈦，氧化鋯,，ITO,，AZO，氮化鉭,，氮化鈦等,；

二、PVD平臺概述：既專注單一功能,、又可通過拓展實現(xiàn)多平臺聯(lián)動：

1,、 關(guān)鍵部件接口都為標準接口，可以通過更換功能單元實現(xiàn)電子束,、電阻蒸發(fā),、有機蒸發(fā)、多靶或單靶磁控濺射,、離子束,、多弧、樣品離子清洗等功能,；

2,、 系統(tǒng)平臺為準無油系統(tǒng)，提供更優(yōu)質(zhì)的超潔凈實驗環(huán)境,，保障實驗結(jié)果的可靠性和重復性,；

3、 系統(tǒng)可以選擇單靶單樣品,、多靶單樣品等多層沉積方式,；

4、 靶基距具有腔外手動調(diào)節(jié)功能,；

5,、 系統(tǒng)設(shè)置一鍵式操作，可以實現(xiàn)自動手動切換,、遠程控制,、遠程協(xié)助等功能；

6,、 控制軟件分級權(quán)限管理,，采用配方式自動工藝流程,，提供開放式工藝編輯、存儲與調(diào)取執(zhí)行,、歷史數(shù)據(jù)分析等功能,，可以不斷更新和升級；

7,、 可以提供網(wǎng)絡和手機端查詢控制功能（現(xiàn)場要具備局域網(wǎng)絡）,，實現(xiàn)隨時查詢數(shù)據(jù)記錄、分析統(tǒng)計等功能,；

8,、 節(jié)能環(huán)保，設(shè)備能耗優(yōu)化后運行功率相比之前節(jié)能10%,；,；

9、 可用于標準鍍膜產(chǎn)品小批量生產(chǎn),。

  三,、互聯(lián)系統(tǒng)技術(shù)描述

    真空互聯(lián)系統(tǒng)由物理氣相沉積磁控濺射系統(tǒng)A、物理氣相沉積磁控濺射系統(tǒng)B,、物理氣相沉積,、電子束及熱阻蒸發(fā)鍍膜系統(tǒng)A,、物理氣相沉積電子束及熱阻蒸發(fā)鍍膜系統(tǒng)B,、進樣室、出樣室,、傳輸管,、機械手等組成，可以實現(xiàn)樣品在真空環(huán)境下不同工藝方法的樣品薄膜制備和傳遞,。