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深圳市矢量科學(xué)儀器有限公司

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槽式濕法刻蝕清洗設(shè)備

參  考  價(jià):面議
具體成交價(jià)以合同協(xié)議為準(zhǔn)

產(chǎn)品型號(hào)customized

品牌至純

廠商性質(zhì)經(jīng)銷商

所在地國(guó)外

更新時(shí)間:2024-09-06 14:11:50瀏覽次數(shù):1902次

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槽式濕法刻蝕清洗設(shè)備 應(yīng)用領(lǐng)域:RCA清洗,,濕法去膠,,介質(zhì)層濕法刻蝕,金屬層濕法刻蝕,,爐管前清洗等

1. 產(chǎn)品介紹 

槽式濕法刻蝕清洗設(shè)備

2. 應(yīng)用領(lǐng)域

RCA清洗,,濕法去膠,介質(zhì)層濕法刻蝕,金屬層濕法刻蝕,,爐管前清洗等

3. 技術(shù)參數(shù)

晶圓尺寸:100mm~300mm

4. 設(shè)備配置:

支持化學(xué)液C.C.S.S.,、L.C.S.S

Marangoni dry 或 spin dry

自動(dòng)換酸,自動(dòng)補(bǔ)液,、配液

加熱控制,,濃度控制,流量控制,,壓力控制等

槽體過(guò)溫保護(hù),,各單元配置漏液傳感器

支持化學(xué)液回收

全面支持SECS/GEM通訊協(xié)議

5. 工藝指標(biāo)

蝕刻非均勻性 片內(nèi):≤4%;片間:≤4%,;批次間: ≤4%;

6. 顆??刂?/span>

增加值<30顆@0.09μm(帶氧化硅膜測(cè)試,,來(lái)料顆粒<50顆)

7. 金屬離子

<5E9 atoms/cm2

8. 企業(yè)概括

深圳市矢量科學(xué)儀器有限公司是集半導(dǎo)體儀器裝備代理及技術(shù)服務(wù)的高新技術(shù)企業(yè)。

致力于提供半導(dǎo)體制程工藝裝備,、后道封裝裝備,、半導(dǎo)體分析測(cè)試設(shè)備、半導(dǎo)體光電測(cè)試儀表及相關(guān)儀器裝備維護(hù),、保養(yǎng),、售后技術(shù)支持及實(shí)驗(yàn)室整體服務(wù)。

公司已授實(shí)用新型權(quán)利 29 項(xiàng),,軟件著作權(quán) 14 項(xiàng),,是創(chuàng)新型中小企業(yè)、科技型中小企業(yè),、規(guī)模以上工業(yè)企業(yè),。



有掩膜光刻機(jī)

1.手動(dòng)、半自動(dòng),、全自動(dòng)有掩膜光刻機(jī)$r$n2.高分辨率掩模對(duì)準(zhǔn)光刻,,

無(wú)掩膜/激光直寫光刻機(jī)

無(wú)掩膜/激光直寫光刻機(jī) 參數(shù):1. 光源:375 nm、385 nm,、

電子束光刻系統(tǒng)

電子束光刻系統(tǒng) 技術(shù)參數(shù):$r$n1.最小線寬≤8nm 光柵周期

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