一,、產(chǎn)品介紹：

1. 兼容基底尺寸：直徑≤100mm

2. 支持基底材料：硅片、玻璃,、石英,、塑料、金屬等                                                                            

3. 納米壓印技術(shù)：旋涂膠基底高精度壓印&點(diǎn)膠自動(dòng)找平壓印,、旋涂膠基底壓印,、點(diǎn)膠自動(dòng)找平壓印模式

4. 壓印精度：優(yōu)于10nm                                                                                                        

5. 結(jié)構(gòu)深寬比：優(yōu)于10：1

6. 殘余層控制：可小于10nm   微米級(jí)TTV控制精度

7. 紫外固化光源：紫外LED（365nm）面光源，光強(qiáng)>300mW/cm2

8. 自動(dòng)壓印/自動(dòng)脫模/自動(dòng)工作模具復(fù)制/主動(dòng)找平壓印/模自動(dòng)點(diǎn)膠：支持

9. 模具基底對(duì)位系統(tǒng)：手動(dòng)對(duì)位（選配）

10. 上下片方式：手動(dòng)上下片

二,、技術(shù)優(yōu)勢(shì)：

隨機(jī)提供全套納米壓印工藝與材料,，包括DOE、AR斜齒光柵,、高密度,、高深寬比結(jié)構(gòu)、微透鏡陣列,、勻光片結(jié)構(gòu)等工藝流程,，幫助客戶零門檻達(dá)到國(guó)際納米壓印水平。