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參考價	面議

半導體行業(yè)專用儀器

PALD

粉體包覆

PALD廠家

ALD

原子層沉積設備

其他品牌

價格區(qū)間	100萬-200萬	應用領(lǐng)域	綜合

正極材料包覆（Atomic layer deposition)是通過將氣相前驅(qū)體脈沖交替地通入反應腔體內(nèi)并在沉積基體上化學吸附并反應而形成沉積膜的一種技術(shù)，具有自限性和自飽和,。原子層沉積技術(shù)主要應用是在各種尺寸和形狀的基底上沉積高精度,、無針孔、高保形的納米薄膜,。

詳細介紹

    一,、正極材料包覆核心參數(shù)：

    價格區(qū)間：100萬-200萬

    產(chǎn)地類別：國產(chǎn)原子層沉積系統(tǒng)（ALD）

    襯底尺寸：10g-1000g粉末

    工藝溫度：RT-300℃

    前驅(qū)體數(shù)：2組反應氣體8組液態(tài)或固態(tài)反應前驅(qū)體

    重量：300KG

    尺寸(WxHxD)：1150*1030*1850mm

    均勻性：在粉末表面實現(xiàn)均勻原子層包覆,包覆均一性<3%

    二、原子層沉積（Atomiclayerdeposition)是通過將氣相前驅(qū)體脈沖交替地通入反應腔體內(nèi)并在沉積基體上化學吸附并反應而形成沉積膜的一種技術(shù),，具有自限性和自飽和,。原子層沉積技術(shù)主要應用是在各種尺寸和形狀的基底上沉積高精度、無針孔,、高保形的納米薄膜,。

    三、正極材料包覆產(chǎn)品描述：

    廈門韞茂科技公司的GM系列自動粉末原子層沉積設備它可以在微納米粉體上實現(xiàn)均勻可控的原子層沉積或分子層沉積生長,，GM1000的反應室可自動運行ALD(原子層沉積)或MLD(分子層沉積),，設備配有獨立控制的300℃完整加熱反應腔室系統(tǒng)，保證工藝溫度均勻,。該系統(tǒng)具有粉末樣品桶,、動態(tài)粉末流化機構(gòu)、全自動溫度控制,、ALD前驅(qū)體源鋼瓶,、自動溫度控制閥、工業(yè)級安全控制,，以及現(xiàn)場RGA,、QCM、臭氧發(fā)生器,、手套箱等設計選項,。是*能源材料、催化劑材料,、新型納米材料研究與應用的最佳研發(fā)工具,。

    四、售后服務：

    保修期：1年

    是否可延長保修期：否

    現(xiàn)場技術(shù)咨詢：有

    免費培訓：1.設備出廠前,，提供至少2人一周的設備原廠培訓,。2.設備在現(xiàn)場完成安裝調(diào)試

    免費儀器保養(yǎng)：有需要可安排

    保內(nèi)維修承諾：保修期內(nèi)（除天災和人為損害外）部件,、元件費用、出差費用均由我司承擔

    報修承諾：質(zhì)保期內(nèi)出現(xiàn)故障時我司將及時響應,，并在8小時內(nèi)派技術(shù)人員到現(xiàn)場解決故障

    五,、技術(shù)參數(shù)：