目錄:沈陽科晶自動化設(shè)備有限公司>>DIY>>濺射鍍膜類>> HVMSS-SPC-2 2英寸高真空磁控濺射頭
| 產(chǎn)地類別 | 國產(chǎn) |
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2英寸高真空磁控濺射頭HVMSS-SPC-2主要適用于我公司制造的VTC-600-3HD三靶磁控濺射儀、VTC-600-2HD雙靶磁控濺射儀,，該磁控濺射頭可安裝直徑為2"的靶材,，適用靶材種類較廣，如金屬靶材（如金,、銀,、銅等材料）、絕緣靶材（如陶瓷靶材,、氧化物靶材,、聚四氟乙烯靶材等）、磁性靶材,、非磁性靶材等,。該磁控濺射頭配裝有環(huán)形NdFeB永磁體在濺射頭上，以保證濺射鍍膜的效率和薄膜在樣品表面分布的均勻性,。該磁控濺射頭可與DC或RF電源配合使用來濺射不同種類的樣品,。
產(chǎn)品型號 | 2英寸高真空磁控濺射頭HVMSS-SPC-2 |
主要特點 | 1、采用高質(zhì)量的不銹鋼和陶瓷材料制作,。 2,、采用電磁場的有元計算法來設(shè)計永磁體，以得到較高的磁場強(qiáng)度和均勻分布,。 3,、磁體表面涂有保護(hù)層，以防止冷卻水的腐蝕,，延長其使用壽命,。 4,、標(biāo)準(zhǔn)的HN型接頭，可與DC和RF電源相匹配,。 5,、安裝采用標(biāo)準(zhǔn)真空接頭，便于操作,。 6,、靶材更換較為簡單，無需調(diào)整濺射頭的高度,。 |
技術(shù)參數(shù) | 1,、陽極護(hù)罩直徑：Φ3.5" 2,、所用靶材：直徑2"（50.8mm）,，非磁性靶zui大厚度1/4"，磁性靶zui大厚度1/16" 3,、磁鐵：NdFeB稀土永磁體 4,、靶材利用率：30% 5、所需功率：DCzui大1000W,，RFzui大500W 6,、濺射電流：zui大3A 7、濺射電壓：100V-1000V 8,、濺射時腔體真空度：5mtorr-100mtorr 9,、濺射均勻性曲線： 10、水冷卻：水管外徑0.25",，流速0.8GPM,，進(jìn)水溫度<20℃ |
產(chǎn)品規(guī)格 | |
可選配件 | 1、循環(huán)水冷機(jī),，流量為16L/min,，水箱容積為6L。 2,、同時購買300W射頻發(fā)射器和2"磁控濺射頭時,，本司贈送1個高真空快速接頭。接頭內(nèi)徑為0.75",，可將濺射 頭安裝在真空腔體上,，真空腔體上的安裝孔直徑為1"，真空腔體的壁厚不得大于1",。 |
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