目錄:沈陽科晶自動化設(shè)備有限公司>>DIY>>濺射鍍膜類>> HVMSS-SPC-1-LD 1英寸高真空磁控濺射頭
| 產(chǎn)地類別 | 國產(chǎn) |
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1英寸高真空磁控濺射頭HVMSS-SPC-1-LD主要適用于我公司制造的VTC-600-3HD三靶磁控濺射儀、VTC-600-2HD雙靶磁控濺射儀,，該磁控濺射頭可安裝直徑為1"的靶材,?？膳c直流、脈沖直流和射頻電源相匹配,，因此可濺射各種靶材,，如金屬靶材（如金、銀,、銅等材料）,、絕緣靶材（如陶瓷靶材、氧化物靶材,、聚四氟乙烯靶材等）,、磁性靶材、非磁性靶材等,。且采用高真空的結(jié)構(gòu)設(shè)計,，可提高鍍膜質(zhì)量。該濺射頭配裝有環(huán)形NdFeB永磁體在濺射頭上,，以保證濺射鍍膜的效率和薄膜在樣品表面分布的均勻性,。
產(chǎn)品型號 | 1英寸高真空磁控濺射頭HVMSS-SPC-1-LD |
主要特點 | 1、采用高質(zhì)量的不銹鋼和陶瓷材料制作,。 2,、采用電磁場的有元計算法來設(shè)計永磁體，以得到較高的磁場強度和均勻分布,。 3,、磁體表面涂有保護層，以防止冷卻水的腐蝕,，延長其使用壽命。 4,、標(biāo)準的HN型接頭,，可與DC和RF電源相匹配。 5,、安裝采用標(biāo)準真空接頭,，便于操作。 6,、靶材更換較為簡單,，無需調(diào)整濺射頭的高度。 7,、配有銅靶1塊,。 |
技術(shù)參數(shù) | 1、濺射頭直徑：Φ46.3mm 2,、所用靶材：直徑1"±0.02"（25.4mm）,，zui大厚度1/8"（3mm） 3,、磁環(huán)：NdFeB稀土永磁體 4、柄桿直徑：外徑3/4" 5,、電路接頭：標(biāo)準HN型接頭,，可與DC和RF電源相匹配 6、所需功率：DCzui大250W,，RFzui大100W 7,、陰極濺射電流：zui大3A 8、陰極濺射電壓：200V-1000V 9,、工作壓力范圍：1mtorr-1torr 10,、濺射厚度均勻性：采用磁控濺射在氧化非晶硅片上沉積一個20nm的薄膜，直流功率150W,，真空環(huán)境 10mtorr,，1"銅靶，與基片距離75mm 11,、水冷卻：水管接頭為外徑0.25"快插頭,，所需水流量1/2GPM，進水溫度<20℃ 12,、高真空快速接頭：為贈送品,，數(shù)量1個，內(nèi)徑為0.75",，可將濺射頭安裝在真空腔體上,，真空腔體上的安裝 孔直徑為1"，真空腔體的壁厚不得大于1" 13,、傾斜裝置：濺射頭相對于柄桿zui大可傾斜±45?,，設(shè)有刻度線，可觀察到靶頭傾斜的角度 |
產(chǎn)品規(guī)格 | 尺寸：14"（355.6mm）,；重量：1.36kg |
可選配件 | 1,、循環(huán)水冷機，流量為16L/min,，水箱容積為6L,。 2、100W小型手動匹配型射頻電源RF-100-LD,，可自行搭建濺射鍍膜儀,。 |
主要應(yīng)用 | 在真空腔體中HVMSS-SPC-1-LD磁控濺射頭可制作各種薄膜，應(yīng)用如下： 薄膜涂覆,、半導(dǎo)體器件,、磁記錄介質(zhì)、超導(dǎo)薄膜,、量子計算器件,、MEMS,、生物傳感器、納米技術(shù),、超晶格,、顆粒 膜、記憶合金,、組合薄膜沉積,、光學(xué)薄膜 |
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