一,、概述

SE-m 是一款針對半導(dǎo)體行業(yè)定制的微區(qū)圖形結(jié)構(gòu)測量的專用型光譜橢偏儀，其采用 1  超小微光斑探測測量技術(shù),， 2 定制超快測量速度等技術(shù),。可應(yīng)用透明各類襯底上的減反膜,、導(dǎo)電膜等薄膜的n/k/d測量,，適用于微區(qū)圖形的各種光學(xué)參數(shù)解析。

二,、特色功能

■ 可定制光斑尺寸,，最小可達(dá)30um；

■ 超快測量,，單次測量時間小于0.5秒 ,；

■ 系列配置靈活，支持功能定制設(shè)計(jì),；

■ 結(jié)構(gòu)緊湊,，更適應(yīng)在線集成測量,。

三、測量實(shí)例

微區(qū)圖形結(jié)構(gòu)測量

四,、應(yīng)用場景 

應(yīng)用于光學(xué)常數(shù)測量,，適用于各類光學(xué)薄膜等鍍膜檢測應(yīng)用。