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手動/半自動曝光機

光刻機又名：掩模對準曝光機,，曝光系統(tǒng),，光刻系統(tǒng)，光刻機,，紫外曝光機等,；
MIDAS為球*的半導(dǎo)體設(shè)備供應(yīng)商，多年來致力于掩模對準光刻機和勻膠機研發(fā)與生產(chǎn),，并且廣泛應(yīng)用于半導(dǎo)體,、微電子、生物器件和納米科技領(lǐng)域,；該公司是目前世界上早將光刻機商品化的公司之一,，擁有雄厚的技術(shù)研發(fā)力量和設(shè)備生產(chǎn)能力,；并且其設(shè)備被眾多著名企業(yè)、研發(fā)中心,、研究所和高校所采用,；以秀的技術(shù)、*的工藝和良好的服務(wù),，贏得了用戶的青睞,。

手動/半自動曝光機

產(chǎn)地：韓國MIDAS公司，一能做到圖形化藍寶石襯底（PSS）光刻機,，高性價比
型號：MDA-400M, MDA-60MS

主要特點:
- 光源強度可控,；
- 紫外曝光，深紫外曝光(Option),；
- 系統(tǒng)控制：手動,、半自動和全自動控制；
- 曝光模式：真空接觸模式(接觸力可調(diào)),Proximity接近模式, 投影模式,；
- 真空吸盤范圍可調(diào),；
- 技術(shù)：可雙面對準，可雙面光刻,，具有IR和CCD模式
- 雙CCD顯微鏡系統(tǒng),，大放大1000倍，顯示屏直接調(diào)節(jié),，比傳統(tǒng)目鏡對準更方便快捷,，易于操作。
- 特殊的基底卡盤可定做,；
- 具有楔形補償功能,；

武漢賽斯特精密儀器有限公司是武漢市專業(yè)研發(fā)，以力學(xué)試驗機儀器為主,，同時銷售各種,、中低端分析儀器。現(xiàn)有員工60多人,，公司成功開發(fā)了PCI放大采集卡和中文版試驗軟件,，并采用全數(shù)字化，操作簡捷,，*符合GB,、ISO、JIS,、ASTM,、DIN等標準、國家標準、行業(yè)標準的要求,，公司亦通過了ISO9001質(zhì)量體系認證和國家計量體系認證，榮獲了“武漢市第九界消費者滿意單位"的稱號,。

產(chǎn)品廣泛應(yīng)用于電子,、高校、政府研究機構(gòu),、環(huán)保機構(gòu),、防軍工、航天,、石油化工,、紡織制造、第三方檢測機構(gòu),、家級別研究院,、新能源、集成電路,、芯片,、封裝測試、半導(dǎo)體行業(yè),、顯示器領(lǐng)域,、光電材料、鋰電池,、機械生產(chǎn)等領(lǐng)域,。并與武漢理工大學(xué)、華中科技大學(xué)等建立了長期合作,，每年投入大量研究經(jīng)費,，招攬各方秀的技術(shù)人才加盟突破國內(nèi)技術(shù)壁壘，不斷攻克新的技術(shù)難題,，另外公司還積極拓展海外業(yè)務(wù),，產(chǎn)品遠銷越南，印度,，埃及等國家和地區(qū),。