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等離子清洗機（PLUTO-T實驗室桌面小型）具有性能穩(wěn)定,、性價比高,、操作簡便、使用成本極低,、易于維護的特點,。 對各種幾何形狀、表面粗糙程度各異的金屬,、陶瓷,、玻璃、硅片,、塑料等物件表面進行超清洗和改性,。 **地清除樣品表面的有機污染物。

 應用領(lǐng)域：

　　半導體元件清洗：光學器件,、電子元件,、半導體元件、激光器件,、鍍膜基片,、終端安裝等的超清洗。

　　光學鏡片清洗：清洗光學鏡片,、電子顯微鏡片等多種鏡片和載片,。

　　去除氧化物：移除光學元件、半導體元件等表面的光阻物質(zhì),，去除金屬材料表面的氧化物,。

　　芯片清洗：清洗生物芯片、微流控芯片,、沉積凝膠的基片,。

　　表面修飾：高分子材料表面的修飾。

　　封裝領(lǐng)域：封裝領(lǐng)域中的清洗和改性,，增強其粘附性,，適用于直接封裝及粘和。

　　改善粘合力：改善粘接光學元件,、光纖,、生物醫(yī)學材料,、宇航材料等所用膠水的粘和力。

　　涂覆鍍膜：對玻璃,、塑料,、陶瓷、高聚合物等材料表面的改性,，使其活化,，增強表面粘附性、浸潤性,、相容性,，顯著提高涂覆鍍                         膜質(zhì)量。

　　牙科領(lǐng)域：對鈦制牙移植物和硅酮壓模材料表面的預處理,，增強其浸潤性和相容性,。

　　醫(yī)用領(lǐng)域：修復學上移植物和生物材料表面的預處理，增強其浸潤性,、粘附性和相容性及對醫(yī)療器械的消毒和殺菌,。

產(chǎn)品特點：

　　1.具有性能穩(wěn)定、性價比高,、操作簡便,、使用成本極低、易于維護的特點,。

　　2.對各種幾何形狀,、表面粗糙程度各異的金屬、陶瓷,、玻璃,、硅片、塑料等物件表面進行超清洗和改性,。

　　3.**地清除樣品表面的有機污染物,。

　　4.定時處理、快速處理,、清洗效率高,。

　　5.綠色環(huán)保、不使用化學溶劑,、對樣品和環(huán)境無二次污染,。

　　6.在常溫條件下進行超清洗，對樣品非破壞性處理,。

等離子清洗機（PLUTO-T實驗室桌面小型）技術(shù)參數(shù):

　　1.真空腔規(guī)格: 不銹鋼腔體,直徑150mm*(深)200mm

　　2.電極：平板氣浴電極,，材質(zhì)6061-T6鋁合金

　　3.電極尺寸：100*170mm

　　4.頻率：40KHz (可選配13.56MHz射頻等離子源)

　　5.功率：0-300W連續(xù)可調(diào)，精度1W,可在設(shè)備運行中隨時調(diào)整參數(shù)

　　6.氣體控制：針式氣體流量閥， 0-300ml   2路氣體

　　7. 真空計：電偶式真空計,，精度：0.01mTor

　　8.控制方式：4.3寸工業(yè)控制觸摸屏,，全手動控制和全自動控制兩種控制方式

　　控制軟件功能：界面顯示實時工作狀態(tài)