勻膠顯影機(jī)

一,、產(chǎn)品概述：
    650型顯影機(jī)適應(yīng)于半導(dǎo)體、化工材料,、硅片,、晶片、基片,、導(dǎo)電玻璃等工藝,，制版的表面顯影。一般顯影機(jī)由動(dòng)力系統(tǒng),、顯影液槽及噴液管,、水洗槽、擠壓 (水)輥,、涂膠槽等部分組成,。

二、顯影機(jī)工作原理：
顯影系統(tǒng)具有可編程閥,，它可以使單注射器試劑滴膠按照蝕刻,、顯影和清洗應(yīng)用的要求重復(fù)進(jìn)行，如沖洗（通常是去離子水或溶劑）,，然后干燥（通常是氮?dú)猓┑群蟮奶幚聿襟E,。采用此序貫閥門技術(shù)的晶圓片和管道在*干燥的環(huán)境中開通和關(guān)閉處理過(guò)程。隔離和獨(dú)立的給水器可處在靜態(tài)的位置還可以蓋內(nèi)調(diào)節(jié),。蝕刻/顯影/清洗全套系統(tǒng)還有可選擇的動(dòng)態(tài)線性或徑向滴膠的特性,。

勻膠顯影機(jī)

三、勻膠機(jī)主要性能指標(biāo)：
1,、腔體尺寸：9.5英寸 (241 毫米),；
2、Wafer&芯片：直徑6英寸（150毫米）的晶圓片或者5x5英寸（125毫米）的方片,；
3,、非真空托盤：聚丙烯材質(zhì)非真空托盤，可承載2,、3英寸及150毫米的晶圓片-并帶有背面清洗功能,；
3、轉(zhuǎn)動(dòng)速度：0-12,000rpm,，
4,、旋涂加速度：0-30000rpm/sec（空載）；
5,、馬達(dá)旋涂轉(zhuǎn)速：穩(wěn)定性能誤差 < ±1%,；
6、工藝時(shí)間設(shè)定：1-5999.9 sec/step 0.1 精度,；
7,、高精度數(shù)碼控制器：PLC控制，設(shè)置點(diǎn)精度小于0.006%,；
8,、程序控制：可存儲(chǔ)20個(gè)程序段，每個(gè)程序段可以設(shè)置51步不同的速度狀態(tài),；
9,、分辨率：分辨率小于0.5轉(zhuǎn)/分，可重復(fù)性小于±0.5轉(zhuǎn)/分,，美國(guó)國(guó)家標(biāo)準(zhǔn)技術(shù)研究院（NIST）認(rèn)證過(guò)的,，并且無(wú)需再校準(zhǔn)！]
10,、腔體開關(guān)蓋板：透明ECTFE材質(zhì)圓頂蓋板,，便于實(shí)時(shí)進(jìn)行可視化操作；
11,、腔體材質(zhì)說(shuō)明：用聚丙烯材質(zhì)制成的帶有聯(lián)動(dòng)傳感觸點(diǎn)的合瓣式艙體,；
12、配套分析軟件：SPIN3000操作分析軟件,；