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應(yīng)用領(lǐng)域	化工,石油,能源,電子,制藥	耐酸堿	強(qiáng)酸強(qiáng)堿有機(jī)溶劑
耐高溫	260℃	支持定制	尺寸款式可靈活加工,，可以增加下料閥，蓋子等

PTFE方形槽20L特氟龍酸槽可帶下口閥定制

聚四氟乙烯方槽，圓桶主要用于半導(dǎo)體新材料行業(yè)存儲(chǔ)酸堿溶劑,，具有耐腐蝕性,，本底值低的特性，可用作清洗溶劑,，我公司生產(chǎn)提供各種尺寸的四氟方槽,，圓桶，一體成型,，耐用無(wú)泄漏風(fēng)險(xiǎn),，可根據(jù)客戶要求增加接頭,，放料閥等配件，尺寸可定制,，配套大型設(shè)備,。

四氟桶規(guī)格：1L-50L，支持加工定制

貨號(hào);RNKW-PTFEYT

四氟方槽常用尺寸：

300*200*50mm

300*200*100mm

300*200*150mm

300*200*200mm

400*300*50mm

400*300*100mm

400*300*200mm

400*300*300mm

貨號(hào)：RNKW-PTFEFC

PTFE方形槽20L特氟龍酸槽可帶下口閥定制

聚四氟乙烯（PTFE）酸槽憑借其優(yōu)異的化學(xué)穩(wěn)定性,、耐高溫性和高純度特性,，在半導(dǎo)體行業(yè)中扮演著至關(guān)重要的角色，主要用于以下幾個(gè)方面：

1. 濕法清洗工藝:

晶圓清洗: 在半導(dǎo)體制造過(guò)程中,，晶圓需要經(jīng)過(guò)多次清洗以去除表面的污染物,、顆粒和金屬雜質(zhì)。聚四氟乙烯酸槽可用于盛裝各種清洗液,，如硫酸,、氫氟酸、氨水等,，對(duì)晶圓進(jìn)行高效清洗,。

設(shè)備零部件清洗: 半導(dǎo)體生產(chǎn)設(shè)備中的零部件也需要定期清洗以去除沉積的雜質(zhì)和殘留物。聚四氟乙烯酸槽可用于盛裝清洗液,，對(duì)零部件進(jìn)行浸泡或循環(huán)清洗,。

2. 濕法刻蝕工藝:

晶圓刻蝕: 在半導(dǎo)體制造過(guò)程中，需要利用化學(xué)溶液對(duì)晶圓表面進(jìn)行選擇性刻蝕,，以形成所需的電路圖案,。聚四氟乙烯酸槽可用于盛裝刻蝕液，如氫氟酸,、硝酸,、磷酸等，對(duì)晶圓進(jìn)行精確刻蝕,。

材料刻蝕: 一些半導(dǎo)體材料,，如硅、二氧化硅等,，也需要通過(guò)濕法刻蝕工藝進(jìn)行加工,。聚四氟乙烯酸槽可用于盛裝相應(yīng)的刻蝕液，對(duì)材料進(jìn)行刻蝕,。

3. 化學(xué)機(jī)械拋光 (CMP):

拋光液盛放: CMP 是半導(dǎo)體制造中用于平坦化晶圓表面的關(guān)鍵工藝,。聚四氟乙烯酸槽可用于盛放 CMP 拋光液，為拋光過(guò)程提供穩(wěn)定的化學(xué)環(huán)境,。

4. 其他應(yīng)用:

化學(xué)品儲(chǔ)存: 聚四氟乙烯酸槽可用于儲(chǔ)存各種高純化學(xué)品,，如酸、堿,、溶劑等,，避免化學(xué)品與容器發(fā)生反應(yīng)而污染,。

廢液收集: 聚四氟乙烯酸槽可用于收集半導(dǎo)體生產(chǎn)過(guò)程中產(chǎn)生的廢液，便于后續(xù)處理,。

聚四氟乙烯酸槽在半導(dǎo)體行業(yè)應(yīng)用的優(yōu)勢(shì):

優(yōu)異的化學(xué)穩(wěn)定性: 可耐受各種強(qiáng)酸,、強(qiáng)堿、強(qiáng)氧化劑和有機(jī)溶劑的腐蝕,，保證清洗和刻蝕過(guò)程的穩(wěn)定性和安全性,。

高純度: 聚四氟乙烯材料本身具有極低的雜質(zhì)含量，不會(huì)對(duì)清洗液和刻蝕液造成污染,，確保半導(dǎo)體產(chǎn)品的質(zhì)量,。

耐高溫性: 可在高溫環(huán)境下使用，滿足一些特殊工藝的需求,。

易于清洗: 表面光滑,，不易粘附物質(zhì)，清洗方便,，可有效防止交叉污染,。

使用壽命長(zhǎng): 耐腐蝕、耐高溫,、機(jī)械性能好，使用壽命長(zhǎng),，降低生產(chǎn)成本

圖片

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