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應(yīng)用領(lǐng)域	化工,石油,能源,電子,制藥	耐酸堿	強酸強堿有機溶劑
耐高溫	260℃	支持定制	尺寸款式可靈活加工,，可以增加下料閥，蓋子等

聚四氟乙烯酸缸帶蓋15L清洗槽晶圓清洗用

聚四氟乙烯酸洗一體成型槽PTFE無焊接水槽耐腐蝕酸洗槽高溫四氟槽

ptfe內(nèi)外一體槽子主要用途，用于濕法研磨設(shè)備,，HF 和HNO3的混合（定量混合）,，反應(yīng)液內(nèi)部循環(huán)，及產(chǎn)品(Wafer)的蝕刻.其中,，圓形槽體,，用于HF化學(xué)品和水的混合配比，、HNO3和水的混合配比,，并可以根據(jù)其配置的液位傳感器,，進行化學(xué)品混合配比聚四氟乙烯（PTFE）酸槽憑借其優(yōu)異的化學(xué)穩(wěn)定性、耐高溫性和高純度特性,，在半導(dǎo)體行業(yè)中扮演著至關(guān)重要的角色,，主要用于以下幾個方面：

1. 濕法清洗工藝:

晶圓清洗: 在半導(dǎo)體制造過程中，晶圓需要經(jīng)過多次清洗以去除表面的污染物,、顆粒和金屬雜質(zhì),。聚四氟乙烯酸槽可用于盛裝各種清洗液，如硫酸,、氫氟酸、氨水等,，對晶圓進行高效清洗,。

設(shè)備零部件清洗: 半導(dǎo)體生產(chǎn)設(shè)備中的零部件也需要定期清洗以去除沉積的雜質(zhì)和殘留物。聚四氟乙烯酸槽可用于盛裝清洗液,，對零部件進行浸泡或循環(huán)清洗,。

2. 濕法刻蝕工藝:

晶圓刻蝕: 在半導(dǎo)體制造過程中，需要利用化學(xué)溶液對晶圓表面進行選擇性刻蝕,，以形成所需的電路圖案,。聚四氟乙烯酸槽可用于盛裝刻蝕液，如氫氟酸,、硝酸,、磷酸等，對晶圓進行精確刻蝕,。

材料刻蝕: 一些半導(dǎo)體材料,，如硅、二氧化硅等,，也需要通過濕法刻蝕工藝進行加工,。聚四氟乙烯酸槽可用于盛裝相應(yīng)的刻蝕液，對材料進行刻蝕,。

3. 化學(xué)機械拋光 (CMP):

拋光液盛放: CMP 是半導(dǎo)體制造中用于平坦化晶圓表面的關(guān)鍵工藝,。聚四氟乙烯酸槽可用于盛放 CMP 拋光液，為拋光過程提供穩(wěn)定的化學(xué)環(huán)境,。

聚四氟乙烯方槽,，圓桶主要用于半導(dǎo)體新材料行業(yè)存儲酸堿溶劑，具有耐腐蝕性,，本底值低的特性,，可用作清洗溶劑，我公司生產(chǎn)提供各種尺寸的四氟方槽，圓桶,，一體成型,，耐用無泄漏風(fēng)險，可根據(jù)客戶要求增加接頭,，放料閥等配件,，尺寸可定制，配套大型設(shè)備,。

四氟桶規(guī)格：1L-50L,，支持加工定制

貨號;RNKW-PTFEYT

四氟方槽常用尺寸：

300*200*50mm

300*200*100mm

300*200*150mm

300*200*200mm

400*300*50mm

400*300*100mm

400*300*200mm

400*300*300mm

貨號：RNKW-PTFEFC