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Rudolph MP200薄膜厚度測(cè)試儀是一款由Rudolph Technologies制造的薄膜厚度測(cè)量設(shè)備
型號(hào)：Rudolph MP200 ,。
制造商：Rudolph Technologies 。
晶圓大?。?英寸,。
測(cè)量范圍：能夠測(cè)量小至1納米的特征。
光學(xué)系統(tǒng)：高度靈敏的光學(xué)剖面儀用于精確測(cè)量,。
自動(dòng)散射儀：用于檢測(cè)圖形圖像
非銅雙延遲臺(tái)：配置了5英寸的夾具,。

Rudolph MP-200薄膜厚度測(cè)試儀基本信息

基本信息

型號(hào): MP-200

制造商: Rudolph

主要特性

無(wú)接觸金屬厚度測(cè)量

高靈敏度光學(xué)剖面儀

自動(dòng)散射儀

過(guò)程控制系統(tǒng)

技術(shù)參數(shù)

晶圓大小: 8"

工作電流: 75 mA for 24 V models; 8 mA for 230 V models

推力: 200 N

冷卻水需求: 最小流量0.79 GPM (3.00 l/m)

最di溫度: 12 C

應(yīng)用領(lǐng)域

晶圓測(cè)試和計(jì)量系統(tǒng)

配件與兼容性

非銅/雙延遲階段，配備5" Chuck

支持6/8英寸 Chuck

RUDOLPH MP 200薄膜厚度測(cè)試儀是一種專業(yè)級(jí)晶圓測(cè)試和計(jì)量系統(tǒng),，旨在成為任何半導(dǎo)體制造設(shè)施的重要組成部分,。它旨在提供準(zhǔn)確性和可追蹤性,，是專門為方便晶片測(cè)試小螺距和高縱橫比特征而開發(fā)的,。該系統(tǒng)采用業(yè)界領(lǐng)xian的高靈敏度光學(xué)剖面儀，使用白光干涉法掃描晶圓表面,。這可以測(cè)量特征的形狀和輪廓,以及它們的相對(duì)位置和大小,。它也被用于在微觀水平上檢查機(jī)械和表面的均勻性。然后將傳感器的輸出發(fā)送到功能強(qiáng)大且用途廣泛的軟件包中,該軟件包包含幾種高級(jí)算法,可自動(dòng)識(shí)別和測(cè)量小至1納米的特征,。MP 200還包括一個(gè)革命性的"獨(dú)立"散射計(jì),，旨在檢測(cè)晶圓表面的自動(dòng)圖形圖像并測(cè)量其大小和形狀。此工具可用于對(duì)晶片表面執(zhí)行更詳細(xì)的檢查,尤其有助于檢查諸如較小面積設(shè)備或高分辨率模式等特征,。最后,，RUDOLPH MP 200還有一個(gè)多傳感器、全自動(dòng)的過(guò)程控制系統(tǒng),，旨在精確監(jiān)控和控制所有可以影響晶圓質(zhì)量的過(guò)程,。這包括加工過(guò)程中的溫度、壓力,、光子和電子束曝光,。總體而言,MP 200是任何半導(dǎo)體制造設(shè)施的寶貴工具,在測(cè)試和測(cè)量晶片時(shí)提供了準(zhǔn)確性和可追蹤性,。它在檢查圖形圖像,、檢測(cè)小到1納米的特征以及在處理過(guò)程中精確監(jiān)控過(guò)程等方面具有高度的通用性。RUDOLPH MP 200具有多種傳感器和強(qiáng)大但用戶友好的軟件包,是晶圓測(cè)試和計(jì)量的可靠有效的解決方案,。