常用的等離子體激發(fā)頻率有三種：激發(fā)頻率為40kHz的等離子體為超聲等離子體,，13.56MHz的等離子體為射頻等離子體,，2.45GHz的等離子體為微波等離子體,。不同等離子體產(chǎn)生的自偏壓不一樣,，超聲等離子體的自偏壓為1000V左右,，射頻等離子體的自偏壓為250V左右，微波等離子體的自偏壓很低,，只有幾十伏,，而且三種等離子體的機(jī)制不同。

　　超聲等離子體發(fā)生的反應(yīng)為物理反應(yīng),，射頻等離子體發(fā)生的反應(yīng)既有物理反應(yīng)又有化學(xué)反應(yīng),，微波等離子體發(fā)生的反應(yīng)為化學(xué)反應(yīng)。超聲等離子體清洗對(duì)被清潔表面產(chǎn)生的影響最大,，因而實(shí)際半導(dǎo)體生產(chǎn)應(yīng)用中大多采用射頻等離子體清洗和微波等離子體清洗,。而超聲等離子則應(yīng)用于表面除膠、毛刺打磨等處理方面,，典型的等離子體物理清洗工藝是在反應(yīng)腔體中加入氬氣作為輔助處理的等離子體清洗,；氬氣本身是惰性氣體，等離子體的氬氣不和表面發(fā)生反應(yīng),，而是通過離子轟擊使表面清潔,。

　　典型的等離子體化學(xué)清洗工藝是氧氣等離子體清洗。通過等離子體產(chǎn)生的氧自由基非?；顫?，容易與碳?xì)浠衔锇l(fā)生反應(yīng)，產(chǎn)生二氧化碳,、一氧化碳和水等易揮發(fā)物,，從而去除表面的污染物。以物理反應(yīng)為主的等離子體清洗,，也叫做濺射腐蝕（SPE）或離子銑（IM），其優(yōu)點(diǎn)在于本身不發(fā)生化學(xué)反應(yīng),，清潔表面不會(huì)留下任何的氧化物,，可以保持被清洗物的化學(xué)純凈性,，還有一種等離子體清洗是表面反應(yīng)機(jī)制中物理反應(yīng)和化學(xué)反應(yīng)都起重要作用，即反應(yīng)離子腐蝕或反應(yīng)離子束腐蝕,，兩種清洗可以互相促進(jìn),，離子轟擊使被清洗表面產(chǎn)生損傷削弱其化學(xué)鍵或者形成原子態(tài)，容易吸收反應(yīng)劑,，離子碰撞使被清洗物加熱,，使之更容易產(chǎn)生反應(yīng)；選用40KHZ超聲等離子再加入適當(dāng)?shù)姆磻?yīng)氣體,，可以有效去除膠質(zhì)殘?jiān)?、金屬毛刺等等?.45G的微波等離子常用于科研方面及實(shí)驗(yàn)室。