等離子體清洗的原理與超聲波不同,，當艙內接近真空時，打開射頻電源,，此時氣體分子電離,，產生等離子體，伴隨輝光放電現象,，等離子體在電場作用下加速,，從而在電場作用下高速運動，對物體表面造成物理碰撞,。等離子體的能量足以去除各種污染物,，氧離子可以將有機污染物氧化成二氧化碳和水蒸氣排出艙外。
等離子清洗不需要其他原料,，只需空氣即可滿足要求,，使用方便無污染，
同時,，它比超聲波清洗更多的優(yōu)勢在于,，等離子體不僅可以清洗表面，更重要的是可以提高表面活性,，等離子體與物體表面的化學反應可以產生活性化學基團,，這些化學基團活性高，應用范圍廣,，如提高材料表面的粘附能力,，提高焊接能力、結合能力,、親水性等諸多方面,，因此等離子體清洗成為清洗行業(yè)的主流和趨勢。
