產(chǎn)地類別 | 國產(chǎn) | 應用領域 | 化工,地礦,冶金,電氣,綜合 |
---|
主要用于LED行業(yè)的寶石類晶體制備,,氟化物類晶體生長,燒結,,退火等處理
![]() |
參考價 | ¥1350000 |
訂貨量 | 1臺 |
更新時間:2024-09-26 07:25:16瀏覽次數(shù):241
聯(lián)系我們時請說明是化工儀器網(wǎng)上看到的信息,,謝謝!
一·設備用途
主要用于LED行業(yè)的寶石類晶體制備,氟化物類晶體生長,,燒結,退火等處理
二·產(chǎn)品特點
1·模塊化設計,,結構緊湊,,外形美觀,,
2·采用底部電動升降和鐘罩式爐體升降,,結構精巧,,方便,,移動平穩(wěn)裝卸料方便
3· 采用觸摸屏+plc控制方式,自動化程度高,,操作直觀,,功能強大,。
4· 在觸摸屏內可預存幾十種燒結工藝,,一次編輯,,以后直接調用使用,,省去多次編輯工藝的麻煩,,避免輸入錯誤,,燒壞產(chǎn)品,。
5· 燒結的溫度,,真空度,,等數(shù)據(jù)可實時記錄,,也可隨時啟動停止記錄,減少無用數(shù)據(jù),,數(shù)據(jù)可查詢,,可導出下載。
6· 燒結溫度高,,用石墨發(fā)熱體,,發(fā)熱均勻。
三·設備參數(shù)
1· 設備總功率:≤110Kw,;電源電壓:3相380V,50Hz
2·加熱功率:80kw 三相380V(暫定)
3·溫度:1500℃
4·額定溫度:0~1400℃
5. 工作區(qū)尺寸:Ф500×300mm(直徑×高,,)
6·爐體內徑Ф1000*1200mm(暫定)
7·測溫系統(tǒng):鎢萊熱電偶
8·控溫精度: ±1℃
9·加熱區(qū): Ф540×600mm
10·下降速度:慢速升降0.1-10mm/h(伺服控制)
快速升降50-200mm/min(帶手動升降)
11·中心軸有效行程/載重: ≤450mm/200kg
12·爐內充氣壓力: ≤0.03MPa
一·真空晶體爐 晶體生長,燒結,,退火等設備用途
主要用于LED行業(yè)的寶石類晶體制備,,氟化物類晶體生長,燒結,,退火等處理
二·真空晶體爐 晶體生長,,燒結,退火等產(chǎn)品特點
1·模塊化設計,,結構緊湊,,外形美觀,
2·采用底部電動升降和鐘罩式爐體升降,,結構精巧,方便,,移動平穩(wěn)裝卸料方便
3· 采用觸摸屏+plc控制方式,自動化程度高,,操作直觀,,功能強大,。
4· 在觸摸屏內可預存幾十種燒結工藝,,一次編輯,,以后直接調用使用,省去多次編輯工藝的麻煩,,避免輸入錯誤,,燒壞產(chǎn)品。
5· 燒結的溫度,真空度,,等數(shù)據(jù)可實時記錄,,也可隨時啟動停止記錄,,減少無用數(shù)據(jù),數(shù)據(jù)可查詢,,可導出下載,。
6· 燒結溫度高,,用石墨發(fā)熱體,,發(fā)熱均勻。
三·設備參數(shù)
1· 設備總功率:≤110Kw;電源電壓:3相380V,50Hz
2·加熱功率:80kw 三相380V(暫定)
3·溫度:1500℃
4·額定溫度:0~1400℃
5. 工作區(qū)尺寸:Ф500×300mm(直徑×高,)
6·爐體內徑Ф1000*1200mm(暫定)
7·測溫系統(tǒng):鎢萊熱電偶
8·控溫精度: ±1℃
9·加熱區(qū): Ф540×600mm
10·下降速度:慢速升降0.1-10mm/h(伺服控制)
快速升降50-200mm/min(帶手動升降)
11·中心軸有效行程/載重: ≤450mm/200kg
12·爐內充氣壓力: ≤0.03MPa