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目錄:束蘊(yùn)儀器(上海)有限公司>>半導(dǎo)體專(zhuān)用檢測(cè)儀器設(shè)備>>RESmap>> RESmap-1電阻率測(cè)試儀(RESmap )

電阻率測(cè)試儀(RESmap )
  • 電阻率測(cè)試儀(RESmap )
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參考價(jià) 面議
具體成交價(jià)以合同協(xié)議為準(zhǔn)
參考價(jià) 面議
具體成交價(jià)以合同協(xié)議為準(zhǔn)
  • 品牌 Freiberg Instruments
  • 型號(hào) RESmap-1
  • 廠商性質(zhì) 代理商
  • 所在地 上海市
屬性

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更新時(shí)間:2024-09-12 09:30:13瀏覽次數(shù):1411評(píng)價(jià)

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電阻率測(cè)試儀(RESmap )在對(duì)低電阻率晶錠和晶圓進(jìn)行非接觸式測(cè)量方式上擁有非常重要的重復(fù)性 Si | Ge | 化合物半導(dǎo)體 | 寬帶隙 | 材料 | 金屬 | 導(dǎo)電 | 氧化物和氮化物[ Ge | Si | SiC | InP | GaAs | GaN | InAs以及更多]

電阻率測(cè)試儀(RESmap )在對(duì)低電阻率晶錠和晶圓進(jìn)行非接觸式測(cè)量方式上擁有非常重要的重復(fù)性Si | Ge | 化合物半導(dǎo)體 | 寬帶隙 | 材料 | 金屬 | 導(dǎo)電 | 氧化物和氮化物[ Ge | Si | SiC | InP | GaAs | GaN | InAs以及更多]    

       


電阻率測(cè)試儀(RESmap )特征


電阻率的非接觸式測(cè)量和成像高頻渦流傳感原理與集成紅外溫度傳感器可校正樣品的溫度變化
信號(hào)靈敏度基于線圈頻率讀數(shù)的高信號(hào)靈敏度,可實(shí)現(xiàn)準(zhǔn)確可靠的電阻率測(cè)量,,并具有高再現(xiàn)性和可重復(fù)性
測(cè)量時(shí)間測(cè)量時(shí)間 < 3 s,,測(cè)量之間時(shí)間 < 1 s
測(cè)量速度200 mm 晶圓/晶錠 < 30 s,9個(gè)點(diǎn)
多點(diǎn)測(cè)量及測(cè)繪顯示不超過(guò)9999個(gè)點(diǎn)
材料外形尺寸平坦或略微彎曲的晶圓,、晶錠,、錠板、毛坯和薄膜
X-Y位置分辨率≥ 0.1mm
邊緣扣除 5 mm
可靠性模塊化,、緊湊的臺(tái)式儀器設(shè)計(jì),,可靠性高,正常運(yùn)行時(shí)間 > 99%
電阻率測(cè)量的重復(fù)性≤ 0.15%,,基于使用ANOVA   Gage R&R方法對(duì)材料系統(tǒng)分析(MSA)














更多技術(shù)規(guī)格和配置選項(xiàng):  


為自動(dòng)化流程做準(zhǔn)備

可用于不同的平臺(tái)

測(cè)量方法符合

SEMI MF673標(biāo)準(zhǔn)

數(shù)據(jù)及數(shù)據(jù)有效性檢查

使用NIST標(biāo)準(zhǔn)

校準(zhǔn)精度

±1%

集成紅外溫度傳感器 ±0.1°

允許報(bào)告標(biāo)準(zhǔn)溫度下的電阻率,,(與樣品的實(shí)際溫度不同)

樣品厚度校準(zhǔn)

對(duì)于高頻信號(hào)穿透深度大于穿透深度的樣品

電力要求

100-250 VAC, 5 A

尺寸

465 ′ 550 ′ 600 mm

軟件控制

配備Window10或新版本的標(biāo)準(zhǔn)PC,2個(gè)以太網(wǎng)端口

















用戶友好且*的操作軟件:        

◇  電阻率測(cè)量配方,;        

◇  導(dǎo)出/導(dǎo)入功能和原始數(shù)據(jù)訪問(wèn),;        

◇  多級(jí)用戶賬戶管理

◇  所有執(zhí)行的測(cè)量概覽,;

◇  繪圖選項(xiàng)(線,、十字、星,、完整地圖,、地形,、用戶定義圖案)

◇  分析功能包,;統(tǒng)計(jì),、方差分析、溫度校正函數(shù)和數(shù)據(jù)庫(kù),;

◇  遠(yuǎn)程訪問(wèn),;基于互聯(lián)網(wǎng)的系統(tǒng)允許在世界任何地方進(jìn)行遠(yuǎn)程操作和技術(shù)支持


    電渦流傳感器的測(cè)量原理


中心處可實(shí)現(xiàn)較大的準(zhǔn)確性和精確度




4H-SiC晶圓整個(gè)生長(zhǎng)面區(qū)域的電阻率變化測(cè)量


硅晶圓電阻率變化測(cè)量 — 面掃描,、分布和線掃描  


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