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當(dāng)前位置:北京亞科晨旭科技有限公司>>薄膜制備>>原子層沉積系統(tǒng)ALD>> PICOSUN ALD R-300PICOSUN原子層沉積系統(tǒng)ALD R-300高級(jí)版
參 考 價(jià) | 面議 |
產(chǎn)品型號(hào)PICOSUN ALD R-300
品 牌其他品牌
廠商性質(zhì)生產(chǎn)商
所 在 地北京市
更新時(shí)間:2024-09-25 13:47:37瀏覽次數(shù):1651次
聯(lián)系我時(shí),,請(qǐng)告知來自 化工儀器網(wǎng)PICOSUN原子層沉積系統(tǒng)ALD R-300高級(jí)版
產(chǎn)地類別 | 進(jìn)口 | 價(jià)格區(qū)間 | 50萬-100萬 |
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應(yīng)用領(lǐng)域 | 化工,能源,電子/電池,航空航天 |
PICOSUN原子層沉積系統(tǒng)ALD R-300高級(jí)版
(PICOSUN™ ALD P-300 Advanced)
名稱:原子層沉積系統(tǒng) 產(chǎn)地:芬蘭
PICOSUN原子層沉積系統(tǒng)ALD R-300高級(jí)版
Picosun簡介
Picosun是yi家公司,,Picosun的總部位于芬蘭的Espoo,其生產(chǎn)設(shè)施位于芬蘭的Masala(Kirkkonummi),。PICOSUN®ALD設(shè)備專為高產(chǎn)量和高產(chǎn)量而設(shè)計(jì),,并且不斷發(fā)展以提高效率。Picosun適應(yīng)性強(qiáng)其客戶包括 大的電子制造商,,小型的創(chuàng)新型挑戰(zhàn)者以及的大學(xué)。 Picosun的組織機(jī)構(gòu)和種類繁多的ALD解決方案都可以滿足每個(gè)客戶的需求,。PICOSUN®研發(fā)工具具有*的內(nèi)置可擴(kuò)展性,,可確保將研究結(jié)果平穩(wěn)過渡到大批量工業(yè)制造中,而不會(huì)出現(xiàn)技術(shù)差距,。Picosun的熱情在于創(chuàng)新,。當(dāng)您想與設(shè)備制造商共同創(chuàng)建定制的ALD解決方案,從而引ling行業(yè)發(fā)展時(shí),,Picosun是您的合作伙伴,。
PICOSUN™ R系列設(shè)備提供高質(zhì)量ALD薄膜的沉積技術(shù),并在各種各樣的襯底上都表現(xiàn)的均勻性,,包括具挑戰(zhàn)性的通孔的,、超高深寬比和顆粒等樣品。我們?yōu)橐后w,、氣體和固體化學(xué)物提供的更高級(jí)的,,易更換的前驅(qū)源系統(tǒng),能夠在晶圓,、3D樣品和各種納米特性的樣品上生長顆粒度小的薄膜層,。在基本的PICOSUN™ R系列配置中可以選擇多個(gè)獨(dú)立的,*分離的源入口匹配多種類型的前驅(qū)源。PICOSUN™ R系列*的擴(kuò)展性使ALD工藝可以從研究環(huán)境直接過渡到生產(chǎn)環(huán)境的PICOSUN™ P系列ALD系統(tǒng),。由于研發(fā)型與生產(chǎn)型PICOSUN™反應(yīng)腔室核心設(shè)計(jì)特點(diǎn)都是相同的,這消除了實(shí)驗(yàn)室與制造車間之間的鴻溝,。對(duì)大學(xué)來說,突破創(chuàng)新的技術(shù)轉(zhuǎn)化到生產(chǎn)中,就會(huì)吸引到企業(yè)投資,。
PICOSUN原子層沉積系統(tǒng)ALD R-300高級(jí)版
PICOSUN®R-300高級(jí)
Picosun™ 300mm生產(chǎn)線上的產(chǎn)品是300mm以下晶圓的自動(dòng)化,、高產(chǎn)量的工業(yè)ALD加工設(shè)備。包括PICOSUN™ P系列Pro和Advanced ALD設(shè)備,。該工具可以獨(dú)立工作,,也可以集成到PICOPLATFORM™300真空集群系統(tǒng)以達(dá)到更高的產(chǎn)量和自動(dòng)化水平。為了節(jié)約昂貴的設(shè)施空間,,所有PICOSUN™的ALD系統(tǒng)有著緊湊,、高效的設(shè)計(jì)。集成的專業(yè)機(jī)柜,,裝載著前驅(qū)體和電子元件,,保證了快速簡便的維護(hù)和短的停機(jī)時(shí)間。PICOSUN™ P系列工具保證了大產(chǎn)能以及節(jié)約成本的情況下得到的ALD工藝質(zhì)量,,并履行嚴(yán)格的現(xiàn)代半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)的生產(chǎn)力和安全要求,。
工藝咨詢和開發(fā),產(chǎn)能提升,,維護(hù)保養(yǎng)流程和系統(tǒng)及工藝的故障排除,,我們客戶化定制的PICOSUPPORT™綜合解決方案24小時(shí)快速響應(yīng),隨時(shí)待命,。在購買之前,,我們的演示服務(wù)保證了設(shè)備可以100%滿足客戶苛刻的產(chǎn)線需求。
技術(shù)指標(biāo)
襯底尺寸和類型 | 156 mm x 156 mm硅片50~100片/批次(雙面/背對(duì)背) |
高達(dá)300 mm x 300 mm玻璃基板10~20片/批次(雙面/背對(duì)背) | |
大批量的3D產(chǎn)品(例如:鐘表部件,,珠寶,,硬幣,醫(yī)療植入部件,,機(jī)械部件等) | |
粉末與顆粒 | |
Roll-to-roll, 襯底大寬 300 mm | |
多孔,,通孔,與高深寬比(HAR)樣品 | |
工藝溫度 | 50-500℃ |
基片傳送選件 | 氣動(dòng)升降(手動(dòng)裝載) |
半自動(dòng)裝載,,用線性裝載器實(shí)現(xiàn) | |
全自動(dòng)轉(zhuǎn)載,,用工業(yè)機(jī)器人實(shí)現(xiàn) | |
前驅(qū)體 | 液態(tài)、固態(tài),、氣態(tài),、臭氧源 |
前驅(qū)源余量傳感器,并提供清洗和裝源服務(wù) | |
4根獨(dú)立源管線,,多加載6個(gè)前驅(qū)體源 | |
重量 | 400 + 300 kg |
尺寸 (W x H x D) | 149 cm x 191 cm x 111 cm |
選件 | PICOFLOW™ 擴(kuò)散增強(qiáng)器,,N2發(fā)生器,,尾氣處理器,定制設(shè)計(jì),,與工廠軟件連接服務(wù),。 |
驗(yàn)收標(biāo)準(zhǔn) | 標(biāo)準(zhǔn)設(shè)備驗(yàn)收標(biāo)準(zhǔn)為 Al2O3 工藝 |
應(yīng)用領(lǐng)域
客戶使用PICOSUN™ R系列ALD 設(shè)備在150mm和200mm(6“和8”)晶圓上所沉積薄膜厚度均勻性數(shù)據(jù)。
材料 | 非均勻性(1σ) |
AI2O3 (batch) | 0.13% |
SiO2 (batch) | 0.77% |
TiO2 | 0.28% |
HfO2 | 0.47% |
ZnO | 0.94% |
Ta2O5 | 1.00% |
TiN | 1.10% |
CeO2 | 1.52% |
Pt | 3.41% |
PICOSUN原子層沉積系統(tǒng)ALD R-300高級(jí)版
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