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SI 500D等離子沉積系統(tǒng)是ICP-PECVD設(shè)備,，利用ICP高密度等離子源來沉積電介質(zhì)薄膜?？稍跇O低溫度下（ 100ºC）沉積高質(zhì)量SiO2, S...

PICOSUN 原子層沉積系統(tǒng)ALD R-200 Pro,；PICOSUN R-200 Advanced ALD系統(tǒng)適用于數(shù)十種應(yīng)用的研發(fā),，例如IC組件，MEMS...

PICOSUN原子層沉積系統(tǒng)ALD R-200高級版,；系統(tǒng)適用于數(shù)十種應(yīng)用的研發(fā),，例如IC組件,，MEMS器件，顯示器,，LED,，激光和3D對象，例如透鏡,，光學器件...

PICOSUN®R-200標準ALD系統(tǒng)適用于數(shù)十種應(yīng)用的研發(fā),，例如IC組件，MEMS器件,，顯示器,，LED，激光和3D對象,，例如透鏡,，光學器件，珠寶,，...

離子注入機由離子源,、質(zhì)量分析器、加速器,、四級透鏡,、掃描系統(tǒng)和靶室組成，可以根據(jù)實際需要省去次要部位,。離子源是離子注入機的主要部位,，作用是把需要注入的元素氣態(tài)粒子...

SI 500D等離子沉積系統(tǒng)是ICP-PECVD設(shè)備，利用ICP高密度等離子源來沉積電介質(zhì)薄膜,?？稍跇O低溫度下（ 100ºC）沉積高質(zhì)量SiO2, S...