目錄:華儀行(北京)科技有限公司>>CIF材料表面處理儀器>>CIF勻膠機>> SC1CIF-Spin Processor
產(chǎn)地類別 | 國產(chǎn) | 價格區(qū)間 | 10萬-30萬 |
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應(yīng)用領(lǐng)域 | 醫(yī)療衛(wèi)生,環(huán)保,食品,化工,農(nóng)業(yè) |
Spin Processor旋涂勻膠機產(chǎn)品特點
v 采用閉環(huán)控制伺服電機,,數(shù)字式增速信號反饋,,速勻準確,,壽命長,,保證勻膠的均一性。
v 5寸全彩觸摸屏,,智能程序化可編程操控顯示,,標配10個勻膠梯度階段(速度和時間梯度設(shè)置),可選配10個可編程程序,,每個程序下可設(shè)置10個勻膠梯度階段,,z多100個階段。
v 內(nèi)置水平校準裝置,,大限度的保證旋涂均勻,,可對大小不同規(guī)格的基片進行旋涂。
v 多重安全保護:
» 電磁安全開關(guān),,蓋子打開卡盤停止,,保證安全;
» 蓋子自鎖功能,,防止飛片蓋彈開傷人,;
» 雙重安全上蓋,聚四氟嵌鑲鋼化玻璃,,避免單一玻璃或者亞克力上蓋飛片傷人,,大限度保證實驗人員安全。
v 樣品托盤卡口和樣品托盤之間三重密封安全保護,有效降低電機進膠的風險,。
v 一機兩用,,根據(jù)不同樣品可選真空吸盤和非真空卡盤兩種旋涂方式。
v 符合人體功能學的水平取放樣品旋涂托盤設(shè)計,,取放樣品更方便,。
v 不銹鋼噴塑涂層旋涂殼體,旋涂腔體采用PTFE材料,。旋涂托盤采用聚丙烯(NPP-H)材料,,耐酸堿防腐蝕,保證儀器在苛刻條件下仍能正常運行,。
v 上下雙腔體設(shè)計,,較大的上腔體便于擦拭去除膠液,錐形下腔體結(jié)構(gòu)設(shè)計便于收集膠液,,并帶廢膠收集裝置
v 可選氮氣吹干,、氮氣保護,自動滴膠或簡易滴膠裝置,,提供更多的操作便利性,。
v 適用硅片、玻璃,、石英,、金屬、GaAs,,GaN,,InP 等多種材料。
勻膠機是一種常見用于材料薄膜制備工藝的實驗室設(shè)備,,它的原理相對比較簡單,,利用電機高速旋轉(zhuǎn)時所產(chǎn)生的離心力使得試液或者膠液均勻地涂敷在基底材料的表面,顧名思義,,一種可以“讓膠液均勻涂敷的機器”,。勻膠機有很多稱謂,勻膠臺,,旋轉(zhuǎn)涂膜機,,旋轉(zhuǎn)涂層機或者旋轉(zhuǎn)涂敷機等等,它的英文是Spin Processor:旋轉(zhuǎn)涂膜的意思,。
勻膠過程中基片的加速度也會對膠膜的性能產(chǎn)生影響,。因為在基片旋轉(zhuǎn)的階段,光刻膠就開始干燥(溶劑揮發(fā))了,。所以準確控制加速度很重要,。在一些勻膠過程中,,光刻膠中50%的溶劑就在勻膠過程開始的幾秒鐘內(nèi)揮發(fā)掉了。在已經(jīng)光刻有圖形的基片上勻膠,,加速度對膠膜質(zhì)量同樣起重要作用,。在許多情況下,基片上已經(jīng)由前面工序留下來的精細圖形,。因此,,在這樣的基片上穿越這些圖形均勻涂膠是重要的。勻膠過程總是對光刻膠產(chǎn)生離心力,,而恰恰是加速度對光刻膠產(chǎn)生扭力(twisting force),這個扭力使光刻膠在已有圖形的周圍散開,,這樣就可能以另一種方式用光刻膠覆蓋基片上有圖形的部分。
Spin Processor旋涂勻膠機技術(shù)參數(shù)
型號 | 轉(zhuǎn)速(轉(zhuǎn)/分) | 轉(zhuǎn)速穩(wěn)定度 | 勻膠時間 | 旋涂基片尺寸mm | 外型尺寸(LxWxH)mm |
SC1 | 50-10000 | ±1% | 0-2000秒 | 圓片Φ5-Φ100,方片z大100x100 | 310x260x250 |