等離子清洗機主要是利用等離子體里的離子作純物理的撞擊,，把材料表面的原子或附著材料表面的原子打掉,，由于離子在壓力較低時的平均自由基較輕長，有得能量的累積,，因而在物理撞擊時,，離子的能量越高,，越是有的作撞擊,，所以若要以物理反應為主時，就必須控制較的壓力下來進行反應,，這樣清洗效果較好,，
等離子清洗機為了進一步說明各種設備清洗的效果。
等離子清洗機原理與超聲波原理不同，當艙體里接近真空狀態(tài)時,，開啟射頻電源,，這時氣體分子電離，產(chǎn)生等離子體,，并且伴隨輝光放電現(xiàn)象,，等離子體在電場下加速，從而在電場作用下高速運動,，對物體表面發(fā)生物理碰撞,，等離子的能量足以去除各種污染物，同時氧離子可以將有機污染物氧化為二氧化碳和水蒸氣排出艙體外,。
等離子清洗機不需要其他的原料,，只要空氣就能夠滿足要求，使用方便而且沒有污染,，同時比超聲波清洗更具有的優(yōu)勢是等離子不但可以進行表面清洗,，更重要的是可以提高表面活性，等離子體與物體表面進行化學反應能夠產(chǎn)生活性化學集團,，這些化學集團有很高的活性,，從而應用范圍很廣，比如提高材料表面粘接能力,，提高焊接能力,，邦定性，親水性等等很多方面,，因此等離子清洗已經(jīng)成為清洗行業(yè)的主流與趨勢,。
等離子體清洗機的機理，主要是依靠等離子體中活性粒子的“活化作用”達到去除物體表面污漬的目的,。就反應機理來看,，等離子體清洗通常包括以下過程：無機氣體被激發(fā)為等離子態(tài)；氣相物質(zhì)被吸附在固體表面,；被吸附基團與固體表面分子反應生成產(chǎn)物分子,；產(chǎn)物分子解析形成氣相；反應殘余物脫離表面,。
等離子清洗機技術的zui大特點是不分處理對象的基材類型,，均可進行處理，對金屬,、半導體,、氧化物和大多數(shù)高分子材料，如聚丙烯,、聚脂,、聚酰亞胺、聚氯乙烷、環(huán)氧,、甚至聚四氟乙烯等都能很好地處理,，并可實現(xiàn)整體和局部以及復雜結構的清洗。
等離子清洗機還具有以下幾個特點：容易采用數(shù)控技術,，自動化程度高,；具有高精度的控制裝置，時間控制的精度很高,；正確的等離子體清洗不會在表面產(chǎn)生損傷層,，表面質(zhì)量得到保證；由于是在真空中進行,，不污染環(huán)境,，保證清洗表面不被二次污染。
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