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用于化學(xué)機(jī)械拋光機(jī)的研究和開發(fā)的各個(gè)方面

閱讀：2864        發(fā)布時(shí)間：2015/10/24
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 用于化學(xué)機(jī)械拋光機(jī)的研究和開發(fā)的各個(gè)方面
 
•化學(xué)機(jī)械拋光機(jī)測(cè)試和開發(fā)各種不同的微粒，材料,，濃度,，氧化劑，抑制劑等的拋光液
 
•測(cè)試和開發(fā)不同的材料,，溝槽形狀,，尺寸，彈性,，壽命等
 
•測(cè)試和發(fā)展拋光墊調(diào)節(jié)裝置來優(yōu)化拋光墊的損耗率，修整,，效率等
 
•開發(fā)CMP定位環(huán)材料來優(yōu)化摩擦,，磨損，壽命等
 
•測(cè)試去除率,，重復(fù)性缺陷,，工藝優(yōu)化等，研究或開發(fā)各種應(yīng)用的各種材料
 
•半導(dǎo)體方面-銅,，Ta,TaN,Al,Si,SiO,Ru,WC,solarcells,PVD,CVD,薄膜等
 
•化合物半導(dǎo)體-砷化鎵,，銦，磷化物,，汞,，鎘
 
•化學(xué)機(jī)械拋光機(jī)應(yīng)用生物材料-牙，骨,，鈦,，鋼鐵制品等。
 
•光電材料–LED,，藍(lán)寶石,，紅外窗口拋光激光材料，顯微鏡頭,，微光學(xué),，鈮酸鋰,，鉭酸鋰，磷酸氧鈦鉀等,。

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