[導讀] 在測量某些元素和某些類型的合金時,，每種技術(shù)都有各自的優(yōu)勢。HH-LIBS適合快速測量低原子序數(shù)的元素如堿性(Li,、Na等)和堿土金屬(Be,、Mg、Si等);但是并不適合測量高原子序數(shù)的元素如耐火材料元素(Nb,、Mo,、 W等)。另一方面,，HH-XRF適合于測量高原子序數(shù)的元素,，但不適合測量低原子序數(shù)的元素如Mg、Al,、Si;這使得HH-LIBS成為Mg,、Al、Ti 合金等輕合金檢測的更可取技術(shù),。
2015年10月1日,，布魯克推出新的EOS 500手持激光誘導擊穿光譜儀(HH-LIBS)。EOS 500是專為Li,、Mg,、Al 、Si輕元素合金的快速化學分析所設(shè)計,。速度,、精度和重復(fù)性等方面，EOS 500有著自己的優(yōu)勢,。與手持式X射線光譜儀相比,，EOS 500的分析速度大約快10倍。
EOS 500適合于質(zhì)量控制(QA),、金屬加工和材料可靠性鑒定(PMI),，是廢品回收相關(guān)行業(yè)對耐久性的要求。堅固的設(shè)計確保了EOS 500能夠承受在幾乎所有的環(huán)境下進行現(xiàn)場操作,，包括潮濕和灰塵的條件,。此外，EOS 500有一個*的氣體光學護罩,，在光學系統(tǒng)的前面創(chuàng)建了一個連續(xù)的氣體保護罩,，防止灰塵積聚并允許EOS 500在zui嚴苛的環(huán)境中運作。
EOS 500使用專有的低背景激光消融原子發(fā)射光譜1064納米波長激光,。傳統(tǒng)LIBS系統(tǒng)一般利用高能,、低頻激光等離子體發(fā)生器，導致高背景噪音,、尤其是在頻譜的低端,。布魯克專有的1064納米激光能夠產(chǎn)生強烈的原子發(fā)射信號，同時不會產(chǎn)生高背景噪音,，因此不再需要復(fù)雜的澆注系統(tǒng),。利用這種*的設(shè)計，布魯克的 EOS 500可以很容易地在幾秒鐘內(nèi),、分析< 0.1%濃度水平,、具有挑戰(zhàn)性的元素,，如Si、Mg,。
多探頭的設(shè)計允許EOS 500覆蓋從170納米到720納米的較長波長范圍,，同時在復(fù)雜的金屬鈦基體下，保持杰出的分辨率,。這種較長的波長范圍允許檢測元素,，如Li、Be,、Cs等,。此外，廣泛的波長范圍還允許EOS 500選擇更加合適的波長從而獲得更好的準確性,。
“激光技術(shù)的進步使LIBS的小型化和便攜性成為可能,，如今我們已經(jīng)成功的在EOS 500上完成了商業(yè)化，"布魯克納米分析集團HMP業(yè)務(wù)部門總John Landefeld評論,?！安剪斂搜杆偬峁┻@個新的手持系統(tǒng)給我們的客戶，使他們能夠更快,、更有經(jīng)濟效益的工作,。在金屬行業(yè)中，作為手持式X射線光譜儀互補技術(shù)的LIBS分析占有重要的位置,。"
在測量某些元素和某些類型的合金時,，每種技術(shù)都有各自的優(yōu)勢。HH-LIBS適合快速測量低原子序數(shù)的元素如堿性(Li,、Na等)和堿土金屬(Be,、Mg、Si等);但是并不適合測量高原子序數(shù)的元素如耐火材料元素(Nb,、Mo,、 W等)。另一方面,，HH-XRF適合于測量高原子序數(shù)的元素,，但不適合測量低原子序數(shù)的元素如Mg、Al,、Si;這使得HH-LIBS成為Mg,、Al、Ti 合金等輕合金檢測的更可取技術(shù),，而HH-XRF是測量不銹鋼和高溫合金等的更優(yōu)技術(shù),。金屬行業(yè)的客戶現(xiàn)在可以根據(jù)具體有應(yīng)用選擇的手持測量工具。
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