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參考價	面議

X射線光電子能譜儀

AES

XPS

產(chǎn)地類別	進口	價格區(qū)間	面議
應用領(lǐng)域	化工,地礦,能源,電子/電池,綜合

PHI 710掃描俄歇納米探針是一臺設計*的高性能的俄歇電子能譜（AES）儀器,。該設備能分析納米級特征區(qū)域，超薄薄膜和多層結(jié)構(gòu)材料表界面的元素態(tài)和化學態(tài)信息。作為高空間分辨率，高靈敏度和高能量分辨率的俄歇電子能譜儀,， PHI 710可以為用戶提供納米尺度方面的各種分析需求,。

詳細介紹

特點

SEM分辨率≤ 3 nm, AES分辨率≤ 8 nm

在俄歇能譜的采集分析過程中,，包括譜圖,，深度剖析及元素分布成像,，首先需要在SEM圖像上定義樣品分析區(qū)域，同時要求束斑直徑小且穩(wěn)定,。PHI 710 SEM圖像的空間分辨率小于3 nm,，AES的空間分辨率小于8 nm（@ 20 kV, 1 nA）,，如下圖所示,。

圖1 Si基底上的Au的SEM圖像，PHI 710 SEM圖像的空間分辨率小于3 nm

圖2鑄鐵韌性斷裂的界面分析,，左邊是SEM圖像,，中間是鈣，鎂,，鈦的俄歇成像譜圖疊加,，右邊則是硫的俄歇成像，這充分證明了PHI 710在納米級的尺度下的化學態(tài)的分析能力,。

同軸筒鏡分析器（CMA）

PHI 公司電子槍和同軸筒鏡分析器同軸的幾何設計,，具有靈敏度高和各個角度均可收集信號的特點，滿足了表面粗糙不平整樣品對俄歇分析全面表征能力的需求,。如上圖所示,，所有俄歇的數(shù)據(jù)都是從顆粒的各個方向收集而來，成像沒有陰影,。若設備配備的不是同軸分析器,，則儀器的靈敏度會降低，并且成像有陰影，一些分析區(qū)域會由于位置的原因,，而無法分析,。如果想要得到高靈敏度，只能分析正對著分析器的區(qū)域,。如下圖所示,，若需要對顆粒的背面，顆粒與顆粒之間的區(qū)域分析,，圖像會有陰影,。

俄歇能譜儀的化學態(tài)成像

圖譜成像

PHI 710能從俄歇成像分析的每個像素點中提取出譜圖的相關(guān)信息，該功能可以實現(xiàn)化學態(tài)成像,。

高能量分辨率俄歇成分像

下圖是半導體芯片測試分析,，測試的元素是Si。通過對Si的俄歇影像進行線性最小二乘法擬合（LLS）,，俄歇譜圖很清楚的反映出了三個Si的不同化學態(tài)的區(qū)域,，分別是：單質(zhì)硅，氮氧化硅和金屬硅,，并且可以從中分別提取出對應的Si的俄歇譜圖,，如最下方三張圖所示。

納米級的薄膜分析

如下圖SEM圖像中所示,，以硅為襯底的鎳的薄膜上有缺陷,，這是由于退火后，在界面處形成了硅鎳化合物,。分別在缺陷區(qū)域和正常區(qū)域設置了一個分析點,，分析條件為高能量分辨率模式下（0.1%），電子束直徑20 nm,，離子槍采用0.5 kV設定,，如下圖所示，在MultiPak軟件中,，采取最小二乘擬合法用于區(qū)分金屬鎳和硅鎳化合物,，同樣區(qū)分金屬硅和硅化物?？梢钥闯?，硅鎳化合物僅存在于界面處，而在鎳薄膜層和硅襯底中都不存在,。但是,，在鎳涂層的缺陷處，發(fā)現(xiàn)了硅鎳化合物,。

PHI SmartSoft-AES用戶界面

PHI SmartSoft是一個方便使用的儀器操作軟件,。軟件通過任務導向和卷標橫跨頂部的顯示指導用戶輸入樣品,，定義分析點，并設定分析,。一個強大的“自動Z軸定位"功能可定義多個分析點并達到最.理想的樣品分析定位,。簡潔明了的界面設計以及軟件功能設置能夠讓操作者快速上手，方便設置,，保存和調(diào)取分析參數(shù),。