雙靶磁控濺射儀是一款新型的鍍膜設(shè)備，可用于制備單層或多層鐵電薄膜、導(dǎo)電薄膜、合金薄膜,、半導(dǎo)體薄膜,、陶瓷薄膜,、介質(zhì)薄膜、光學(xué)薄膜,、氧化物薄膜,、硬質(zhì)薄膜、聚四氟乙烯薄膜等,。與同類設(shè)備相比,，其不僅應(yīng)用廣泛，且具有體積小便于操作的優(yōu)點(diǎn),是一款實(shí)驗(yàn)室制備材料薄膜的理想設(shè)備,。

　　雙靶磁控濺射儀操作規(guī)范：

　　雙靶磁控濺射儀開機(jī)

　　1,、打開冷水機(jī)。設(shè)定溫度：冬天10-15℃,，夏天5℃

　　2,、打開放氣閥破真空，然后關(guān)閉放氣閥（之后整個(gè)工作過程務(wù)必保證放氣閥均是關(guān)閉狀態(tài),。本機(jī)閥門均是逆時(shí)針打開,，順時(shí)針關(guān)閉）

　　3、打開總控電源

　　4,、打開真空計(jì)（電阻單元真空范圍10Pa,，電離單元0.1-10-6Pa）

　　5、打開燈,，檢查鍍膜腔是否關(guān)緊（觀察腔四周是否有光線）

　　6,、打開機(jī)械泵電磁閥，此時(shí)務(wù)必保證放氣閥已經(jīng)關(guān)閉?。,。?/span>

　　7、打開預(yù)抽閥

　　8,、當(dāng)壓強(qiáng)達(dá)到10Pa以下打開分子泵→運(yùn)行→關(guān)閉預(yù)抽閥→*打開插板閥

　　雙靶磁控濺射儀使用

　　1,、當(dāng)腔內(nèi)壓強(qiáng)真空度達(dá)到要求后，打開氣罐（指針調(diào)至刻度1-2之間）,，關(guān)小插板閥,，儀器的工作氣壓為1-10Pa。

　　2,、關(guān)閉電離單元按下“自動"→電離→打開進(jìn)氣閥→流量計(jì)（mL/min）

　　3,、在保持輸入氣體比例基本不變的條件下調(diào)節(jié)進(jìn)氣量或者調(diào)節(jié)插板閥使氣壓處于1-10Pa，是5Pa,，流量計(jì)開關(guān)一般在“閥控",。

　　4、打開射頻開關(guān)“ON"觀察有無起灰,，若無起灰再調(diào)節(jié)功率或進(jìn)氣量 關(guān)機(jī)

　　氣體流量計(jì)歸零→關(guān)閉狀態(tài)→關(guān)閉進(jìn)氣閥→關(guān)閉控氣閥→關(guān)閉插板閥→關(guān)閉氣瓶→射頻/直流功率歸零→“OFF" →溫度電源歸零關(guān)閉→流量計(jì)關(guān)閉→分子泵停止待轉(zhuǎn)速歸零→關(guān)閉開關(guān)→關(guān)閉電磁閥→關(guān)閉機(jī)械泵→放氣閥打開→放完氣以后關(guān)閉,。