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闡述等離子鍍膜設(shè)備的使用所具備的優(yōu)勢
等離子鍍膜設(shè)備是一款小型的射頻(RF)等離子體磁控濺射鍍膜儀系統(tǒng),,系統(tǒng)中包含了所有所需的配件,,如300W(13.5MHz)的RF電源,、2“的磁控濺射頭,、石英真空腔體,、真空泵和溫度控制器等,。對于制作一些金屬薄膜及非金屬薄膜,,它是一款物美價廉的實驗幫手。
等離子鍍膜設(shè)備優(yōu)勢:
1,、AF噴涂設(shè)備采用原裝德國進(jìn)口納米噴頭,,噴頭采用高低壓轉(zhuǎn)換霧化設(shè)計,使液態(tài)分子極精細(xì),,且不影響藥水效果,;
2、鋨存儲器可拆卸:具有密封式結(jié)構(gòu),,可冷凍保存,;
3、理論設(shè)計產(chǎn)能3000片-4000片/小時,;
4,、噴嘴運(yùn)動速度及輸送線速度均可調(diào),顯著提高生產(chǎn)效率,,滿足各種用戶需求,;
5、控制噴涂藥量,,提高藥水的霧化能力,,使膜層與玻璃能均勻的結(jié)合,提高產(chǎn)品噴涂的均勻性,增大膜層表面爽滑度,;
6,、采用雙等離子處理, 鍍膜前對工件進(jìn)行清潔處理,, 降低工件本身附帶的雜質(zhì),,使玻璃表面與膜層發(fā)生附和反應(yīng),提高膜層結(jié)合的牢固度,,提升產(chǎn)品的抗老化以及耐摩擦能力,,使鍍膜品質(zhì)更高;
7,、自動化控制,,鍍膜時只需設(shè)定薄膜厚度,鍍膜過程自動完成,;
8,、恒定流量控制系統(tǒng),保證藥水平穩(wěn)恒定的供流,,而非波浪線式供流,,解決白霧現(xiàn)象;
9,、鍍膜時間短:只需幾秒鐘膜厚就可以達(dá)到納米級,;
10、裝有互鎖回路:一但 OsO4 氣體進(jìn)入腔體,,真空不達(dá)標(biāo),,腔體就無法打開。