目錄:北京瑞科中儀科技有限公司>>刻蝕機>> 原子層蝕刻設(shè)備
| 應(yīng)用領(lǐng)域 | 環(huán)保,化工,電子/電池 |
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原子層蝕刻設(shè)備介紹：
原子層蝕刻設(shè)備ALE）是一種先進的蝕刻技術(shù),，可精準(zhǔn)的控制其蝕刻深度。隨著元件尺寸的進一步減小,，需要進一步的使用ALE才能達到其所需的精度,。
這就引起了人們對被稱為原子級蝕刻（ALE）的技術(shù)的關(guān)注，該技術(shù)克服了原子級常規(guī)蝕刻的局限性,?；峨姖{的原子層蝕刻是氣體以定量注入和離子轟擊的周期性蝕刻過程，並具有去除單個薄膜層,、極低的損壞率等優(yōu)點,。
SYSKEY的系統(tǒng)可以精準(zhǔn)的控制製程氣體與電漿製程，並提供高精準(zhǔn)度的薄膜蝕刻,。
原子層蝕刻設(shè)備參數(shù)：
| 應(yīng)用領(lǐng)域 | 腔體 |
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| 配置和優(yōu)點 | 選件 |
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(空格分隔,最多3個,單個標(biāo)簽最多10個字符)
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