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原子層沉積設備（ALD）為一種氣相化學沉積技術,。大多數(shù)的ALD反應,，將使用兩種化學物質稱為前驅物。這些前驅物以連續(xù)且自限的方式與材料表面進行反應,。通過ALD循環(huán)的次數(shù),，緩慢的沉積薄膜。而熱沉積式的ALD需要較高的製程溫度(傳統(tǒng)為150~350oC),。

SYSKEY的系統(tǒng)可以精準的控制ALD的製程,，薄膜的厚度和均勻度皆小於+/- 1％。

厚度均勻度（WIW）：

原子層沉積設備單個12英寸晶圓用於沉積目標厚度為5nm的Al2O3和HfO2膜,。使用橢偏儀進行27點厚度測量並輸入標準偏差公式,。在±0.5nm範圍內(nèi)和均勻度的5％以內(nèi)。

介電常數(shù)和功函數(shù)：

準備三個矽晶片，並以固定的厚度沉積Al2O3/ TiN和化學氧化物/ HfO2/ TiN,。測量三個樣品的CV圖以計算介電常數(shù)和洩漏電流：介電常數(shù)應為7?9（Al2O3）和18?22（HfO2）,，並且洩漏電流小於1 nA（@ 1V）。