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目錄:北京瑞科中儀科技有限公司>>沉積系統(tǒng)>> 感應(yīng)耦合電漿化學(xué)氣相沉積設(shè)備

感應(yīng)耦合電漿化學(xué)氣相沉積設(shè)備
  • 感應(yīng)耦合電漿化學(xué)氣相沉積設(shè)備
參考價(jià) 面議
具體成交價(jià)以合同協(xié)議為準(zhǔn)
參考價(jià) 面議
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  • 品牌 其他品牌
  • 型號(hào)
  • 廠商性質(zhì) 經(jīng)銷商
  • 所在地 北京市
屬性

應(yīng)用領(lǐng)域:環(huán)保,化工,電子/電池

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更新時(shí)間:2024-07-10 13:40:41瀏覽次數(shù):650評(píng)價(jià)

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應(yīng)用領(lǐng)域 環(huán)保,化工,電子/電池
感應(yīng)耦合電漿化學(xué)氣相沉積設(shè)備是一種使用ICP的化學(xué)氣相沉積技術(shù),,可為沉積反應(yīng)提供一些能量,。與PECVD方法相比,,ICP-CVD可以在較低的溫度下沉積各種薄膜而不會(huì)降低薄膜質(zhì)量。因使用ICP做為電漿源,,有電漿濃度較高,、能量損耗較低,、功率較大與反應(yīng)速率較高等優(yōu)點(diǎn),。

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ICP-CVD 感應(yīng)耦合電漿化學(xué)氣相沉積設(shè)備(ICP-CVD)是一種使用ICP的化學(xué)氣相沉積技術(shù),,可為沉積反應(yīng)提供一些能量。與PECVD方法相比,,ICP-CVD可以在較低的溫度下沉積各種薄膜而不會(huì)降低薄膜質(zhì)量,。因使用ICP做為電漿源,有電漿濃度較高,、能量損耗較低,、功率較大與反應(yīng)速率較高等優(yōu)點(diǎn)。

SYSKEY感應(yīng)耦合電漿化學(xué)氣相沉積設(shè)備的ICP-CVD可以精準(zhǔn)的控制製程氣體與監(jiān)控其數(shù)據(jù)(壓力,、載臺(tái)溫度),,並提供高品質(zhì)的薄膜。

應(yīng)用領(lǐng)域腔體
  • 奈米碳管與石墨烯製程,。

  • SiOx,、SiNx、a-Si,、DLC和其他薄

    膜製程,。

  • 二維材料,。

  • 醫(yī)療和商業(yè)產(chǎn)品的耐磨薄膜,。

  • 陽(yáng)極電鍍處理鋁腔。

  • 通過使用水冷系統(tǒng),、加熱器或

    加熱包來控制腔體溫度,。


配置和優(yōu)點(diǎn)選件
  • 客製化的基板尺寸,最大直徑可達(dá)

    12寸晶圓,。

  • 腔體壓力:50~10-3 Torr,。

  • 精準(zhǔn)流量控制器,氣體分佈高度均勻,,最多可擴(kuò)充10條氣體管線,。

  • 穩(wěn)定的溫度控制,將載盤加熱至700°C,。

  • 使用Tornado ICP線圈,,ICP電漿範(fàn)

    圍為50W ~2000W,滿足客戶ICP-CVD製程需求,。

  • 可以與傳送腔,、機(jī)械手臂和手

    套箱整合在一起。

  • RPS用於腔體清潔,。

  • 橢圓偏振光譜儀,。

  • 發(fā)射光譜儀,。

  • 高真空傳送系統(tǒng)。




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