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更新時(shí)間:2024-07-10 13:22:07瀏覽次數(shù):573評(píng)價(jià)
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應(yīng)用領(lǐng)域 | 環(huán)保,化工,電子/電池 |
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金屬熱蒸鍍?cè)O(shè)備
熱蒸發(fā)是物理氣相沉積(PVD)中常用方法,,也是PVD簡(jiǎn)單的形式之一,。使用電加熱的蒸發(fā)源可用於沉積大多數(shù)的有機(jī)和無(wú)機(jī)薄膜,其中以電阻式加熱法最為常見(jiàn)的,。這些蒸發(fā)源的優(yōu)點(diǎn)為它們可以提供一種簡(jiǎn)單的薄膜沉積方法,,以電流通過(guò)其容納材料的舟為方式,從而加熱材料,。當(dāng)沉積材料的蒸氣壓超過(guò)真空室的溫度時(shí),,材料將開(kāi)始蒸發(fā)並沉積到基板上。
SYSKEY金屬熱蒸鍍?cè)O(shè)備的熱蒸發(fā)可以精準(zhǔn)的控制蒸發(fā)速度,,且薄膜的厚度和均勻度小於+/- 3%,。
離子源可用於基板清潔和加速材料的蒸發(fā)速度,並且離子源在材料沉積過(guò)程中可幫助沉積並使沉積後的薄膜更為緻密,。
應(yīng)用領(lǐng)域 | 腔體 |
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配置和優(yōu)點(diǎn) | 選件 |
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