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奈米研究技術(shù),。

產(chǎn)品質(zhì)量控制和質(zhì)量檢查。

材料研究,。

太陽(yáng)能電池,。

觸碰螢?zāi)?/span>。

TFT-LCD,。

氧化物,、氮化物和金屬材料的研究。

客製化的腔體尺寸取決於基板尺寸和

其應(yīng)用,。

具有顯示功能的全領(lǐng)域真空計(jì)和用

於壓力控制的Baratron真空計(jì),。

腔體的極限真空度約為10^-7Torr。

客製化基板尺寸最大為1100 x 1300 mm²(玻璃),。

優(yōu)異的薄膜均勻度小於±5％,。

高沉積速率≥ 250nm/min和高效率陰極。

濺鍍功率：射頻 5kW,，直流或脈衝直流20kW,。

具有高均勻的氣體分佈的流量控制器。

穩(wěn)定的溫度控制,，可將基板加熱到400°C,。

水平或垂直濺鍍,。

基板載臺(tái)回流線。

自動(dòng)傳送機(jī)構(gòu),。

OES,、RGA或製程監(jiān)控的額外備用端口。