目錄:北京瑞科中儀科技有限公司>>刻蝕機>> SI 591RIE等離子刻蝕機
| 應(yīng)用領(lǐng)域 | 環(huán)保,化工,電子/電池 |
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RIE等離子刻蝕機
工藝靈活性
RIE蝕刻機SI 591 特別適用于氯基和氟基等離子蝕刻工藝
占地面積小且模塊化程度高
SI 591 可配置為單個反應(yīng)腔或作為片盒到片盒裝載的多腔設(shè)備。
SENTECH控制軟件
我們的等離子蝕刻設(shè)備包括用功能強大的用戶友好軟件與模擬圖形用戶界面,，參數(shù)窗口,，工藝窗口，數(shù)據(jù)記錄和用戶管理,。
預(yù)真空室和計算機控制的等離子體刻蝕工藝條件,，使得SI 591 具有優(yōu)異的工藝再現(xiàn)性和等離子體蝕刻工藝靈活性。靈活性,、模塊性和占地面積小是SI 591的設(shè)計特點,。樣品直徑大可達(dá)200mm，通過載片器加載,。SI 591可以配置為穿墻式操作或具有更多選項的小占地面積操作,。
位于頂部電極和反應(yīng)腔體的更大診斷窗口可以輕易地容納SENTECH激光干涉儀或OES和RGA系統(tǒng),。橢偏儀端口可用于SENTECH橢偏儀進(jìn)行原位監(jiān)測。
SI 591結(jié)合了計算機控制的RIE平行板電極設(shè)計的優(yōu)點和預(yù)真空室系統(tǒng),。SI 591可配置用于各種材料的刻蝕,。在SENTECH，我們提供不同級別的自動化程度,，從真空片盒載片到一個工藝腔室或多六個工藝模塊端口,，可用于不同的蝕刻和沉積工藝模塊組成多腔系統(tǒng)，目標(biāo)是高靈活性或高產(chǎn)量,。SI 591也可用作多腔系統(tǒng)中的一個工藝模塊,。
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