磁濺射鍍膜機(jī)是一種普適鍍膜機(jī),，用于各種單層膜,、多層膜和摻雜膜系,?？慑兏鞣N硬質(zhì)膜,、金屬膜、合金,、化合物、半導(dǎo)體,、陶瓷膜,、介質(zhì)復(fù)合膜和其他化學(xué)反應(yīng)膜,，亦可鍍鐵磁材料,。磁濺射鍍膜機(jī)主要用于實(shí)驗(yàn)室制備有機(jī)光電器件的金屬電極及介電層，以及制備用于生長納米材料的催化劑薄膜層,。
真空鍍膜技術(shù)作為一種產(chǎn)生特定膜層的技術(shù),，在現(xiàn)實(shí)生產(chǎn)生活中有著廣泛的應(yīng)用。真空鍍膜技術(shù)有三種形式,，即蒸發(fā)鍍膜,、濺射鍍膜和離子鍍。這里主要講一下由濺射鍍膜技術(shù)發(fā)展來的磁控濺射鍍膜的原理及相應(yīng)工藝的研究,。
濺射屬于PDV(物理氣相沉積)三種基本方法:真空蒸發(fā),、濺射、離子鍍(空心陰極離子鍍,、熱陰極離子鍍,、電弧離子鍍、活性反應(yīng)離子鍍,、射頻離子鍍,、直流放電離子鍍)中的一種。
磁控濺射包括很多種類,。各有不同工作原理和應(yīng)用對象,。但有一共同點(diǎn):利用磁場與電場交互作用，使電子在靶表面附近成螺旋狀運(yùn)行,，從而增大電子撞擊氬氣產(chǎn)生離子的概率,。所產(chǎn)生的離子在電場作用下撞向靶面從而濺射出靶材。
磁控濺射工藝研究：濺射變量,、電壓和功率,。
在氣體可以電離的壓強(qiáng)范圍內(nèi)如果改變施加的電壓，電路中等離子體的阻抗會隨之改變,，引起氣體中的電流發(fā)生變化,。改變氣體中的電流可以產(chǎn)生更多或更少的離子，這些離子碰撞靶體就可以控制濺射速率,。
一般來說:提高電壓可以提高離化率,。這樣電流會增加，所以會引起阻抗的下降,。提高電壓時(shí),，阻抗的降低會大幅度地提高電流，即大幅度提高了功率,。如果氣體壓強(qiáng)不變,，濺射源下的基片的移動速度也是恒定的，那么沉積到基片上的材料的量則決定于施加在電路上的功率,。在鍍膜產(chǎn)品中所采用的范圍內(nèi),，功率的提高與濺射速率的提高是一種線性的關(guān)系。
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