多功能磁控濺射儀在所有的小型高真空鍍膜設(shè)備中,此設(shè)備功能強(qiáng)大,性能價(jià)格比非常好。鍍膜方式包含了熱蒸發(fā),電子束蒸發(fā)和磁控濺射沉積,。由于它的模塊化設(shè)計(jì),使得多數(shù)研發(fā)人員用起來非常方便,針對(duì)各種樣品易于轉(zhuǎn)換沉積條件,是研究人員不可獲缺的鍍膜工具!
系統(tǒng)主要由濺射真空室,、磁控濺射靶、基片水冷加熱公轉(zhuǎn)臺(tái),、工作氣路,、抽氣系統(tǒng)、安裝機(jī)臺(tái),、真空測(cè)量及電控系統(tǒng)等部分組成,。主要性能指標(biāo)：極限壓力≤2.0x10-5Pa；基片結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì)6個(gè)工位,；樣品尺寸:Ф30mm,，可放置6片；運(yùn)動(dòng)方式：0-360°,；加熱:最高溫度600°C,；靶材尺寸Φ60mm,各靶射頻濺射與直流濺射兼容,靶與樣品距離40-80mm可調(diào),永磁靶5套。質(zhì)量流量控制器2路.計(jì)算機(jī)控制樣品轉(zhuǎn)動(dòng),、擋板開關(guān),、靶位確認(rèn)等,。
多功能磁控濺射儀特點(diǎn)：
1、此系統(tǒng)包含大多數(shù)的真空薄膜鍍層技術(shù):熱蒸發(fā)(boatevaporationorcrucible),，電子束蒸發(fā),，濺射沉積。
2,、這樣我們?cè)谝慌_(tái)設(shè)備上可以靈活運(yùn)用多種膜生長(zhǎng)技術(shù),針對(duì)各種不同大小和形狀的樣品,非常方便切換沉積模式,。
3、腔體的開放式設(shè)計(jì),使得樣品大小從幾毫米到250毫米均可鍍層,。樣品夾具可以輕松固定多個(gè)樣品并同時(shí)鍍膜,。此系統(tǒng)真空腔內(nèi)連接一個(gè)300mm寬的快速通道門,可以非常方便和快速地切換樣品和靶源。這對(duì)于薄膜制備研究機(jī)構(gòu),面對(duì)多種材料增加或改變沉積方式,轉(zhuǎn)換起來非常方便,并沒有任何空間限制,。
4,、此系統(tǒng)為模塊式設(shè)計(jì),可以針對(duì)用戶的具體應(yīng)用來訂制設(shè)計(jì)結(jié)構(gòu)。
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