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邁可諾技術(shù)有限公司

主營產(chǎn)品: 美國Laurell勻膠機(jī),WS1000濕法刻蝕機(jī),Cargille光學(xué)凝膠,EDC-650顯影機(jī),NOVASCAN紫外臭氧清洗機(jī)

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洪山區(qū)珞獅南路147號未來城A棟
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L2002Aossila紫外臭氧清洗機(jī)UVO
ossila紫外臭氧清洗機(jī)UVO
參考價(jià) 面議
具體成交價(jià)以合同協(xié)議為準(zhǔn)
  • 型號 L2002A
  • 品牌 Ossila/歐西拉
  • 廠商性質(zhì) 代理商
  • 所在地 武漢市

更新時(shí)間:2025-05-15 14:36:27瀏覽次數(shù):88

聯(lián)系我們時(shí)請說明是化工儀器網(wǎng)上看到的信息,,謝謝!

【簡單介紹】
產(chǎn)地類別 進(jìn)口 應(yīng)用領(lǐng)域 電子/電池,綜合
ossila紫外臭氧清洗機(jī)UVO作為精密表面處理設(shè)備,,通過高強(qiáng)度雙波段紫外光源(185nm/254nm)激發(fā)臭氧氧化反應(yīng),實(shí)現(xiàn)有機(jī)污染物的無損傷分解與揮發(fā),,可在多元基材(石英/硅/金屬/玻璃等)表面獲得原子級潔凈度,。系統(tǒng)配置153mm直徑溫控樣品臺(tái),集成LCD雙模計(jì)時(shí)顯示(剩余/已用時(shí)間),,內(nèi)置機(jī)械聯(lián)鎖與過熱保護(hù)機(jī)制,,適用于表面能改性(親水化處理)、薄膜沉積預(yù)處理,、精密器件清洗等關(guān)鍵工藝,。
【詳細(xì)說明】

ossila紫外臭氧清洗機(jī)UVO為實(shí)驗(yàn)室級表面處理設(shè)備,通過高功率紫外光源(主波長185nm/254nm)激發(fā)臭氧反應(yīng),,實(shí)現(xiàn)高效無損傷清潔。系統(tǒng)操作流程簡明:放置樣品于溫控托盤→關(guān)閉艙門→設(shè)置清洗時(shí)長(≤59分59秒)→啟動(dòng)運(yùn)行,,即可快速分解有機(jī)污染物為揮發(fā)性物質(zhì),,獲得超潔凈表面(接近原子級清潔度)。

核心功能特性

  1. 廣譜清洗能力

    • 適用基材:石英,、硅,、氧化硅、氮化硅,、金,、鎳、鋁,、砷化鎵,、礬土,、玻璃、不銹鋼等

    • 去除污染物:光刻膠,、樹脂,、人體皮膚油脂、溶劑殘留,、表面油漬,、助焊劑、單分子膜等

  2. 多功能工藝應(yīng)用
    支持表面親水性改良,、薄膜沉積預(yù)處理,、AFM/STM探針清洗、光學(xué)元件清潔,、表面氧化處理,、紫外固化及滅菌消毒等9類工藝。

  3. 工程優(yōu)化設(shè)計(jì)

    • 抽屜式樣品臺(tái)(直徑153mm,,最大承載厚度12mm)

    • LCD雙顯界面(實(shí)時(shí)顯示已用時(shí)間/剩余時(shí)間)

    • 四燈管陣列配置(燈管尺寸150×15mm)

    • 安全聯(lián)鎖機(jī)制(運(yùn)行中艙門鎖定防護(hù))

ossila紫外臭氧清洗機(jī)UVO技術(shù)參數(shù)說明

  1. 紫外燈類型:配置4支合成石英紫外燈管

  2. 波長輸出:雙波段185nm與254nm協(xié)同作用

  3. 燈管尺寸:單支尺寸150mm(長)×15mm(直徑)

  4. 驅(qū)動(dòng)參數(shù):4000V高壓供電,,工作電流30mA

  5. 電源規(guī)格:標(biāo)準(zhǔn)版230V/0.6A/50Hz,可選配110V/1.2A/60Hz版本

  6. 使用壽命:T80標(biāo)準(zhǔn)下2000小時(shí),,常規(guī)實(shí)驗(yàn)室使用周期8-10年

  7. 設(shè)備尺寸:長300mm×寬204mm×高227mm

  8. 安全防護(hù):三重保護(hù)(機(jī)械聯(lián)鎖,、超溫報(bào)警、自動(dòng)斷電)


紫外臭氧清洗原理:

紫外臭氧清洗是一種光敏氧化過程,,其中短波紫外線輻射被有機(jī)分子吸收以將其從表面分離  (通過與臭氧分子的化學(xué)反應(yīng)),。這是一種非常好的技術(shù), 用于清洗基材表面的樹脂,,清潔 溶劑的殘留物,,助焊劑,油以及表面消毒等,,所有這些有機(jī)污染物都會(huì)影響樣品表面的性能,。 與其他清潔技術(shù)(例如氧等離子體處理) 不同,紫外臭氧清洗不會(huì)導(dǎo)致樣品表面損傷,。

紫外臭氧系統(tǒng)使用高強(qiáng)度紫外光源,, 用 185nm 和 254nm 兩種波長的光照射目標(biāo)表面。系統(tǒng) 內(nèi)存在的分子氧(O2) 通過波長小于 200 nm 的紫外線輻射分離產(chǎn)生兩個(gè)氧自由基(O•),。這 些自由基中的每一個(gè)隨后可以與另外的分子氧反應(yīng)產(chǎn)生臭氧(O3)分子,。未被殘余氧吸收 的 200nm 以上的 UV 輻射,會(huì)被基材表面上存在的有機(jī)化學(xué)污染物強(qiáng)烈吸收,,一旦被吸收,, 這會(huì)導(dǎo)致活性或有機(jī)自由基的產(chǎn)生。這些反應(yīng)性有機(jī)物質(zhì)在與不穩(wěn)定的臭氧分子接觸時(shí),,會(huì) 導(dǎo)致?lián)]發(fā)性物質(zhì)如 CO2 ,,H2O ,,N2  和短鏈有機(jī)化合物的形成。這些揮發(fā)性化合物可以很容 易地從表面上分解吸收,, 保持基材的清潔,。

 

 

 

 



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