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邁可諾技術(shù)有限公司

主營產(chǎn)品: 美國Laurell勻膠機(jī),WS1000濕法刻蝕機(jī),Cargille光學(xué)凝膠,EDC-650顯影機(jī),NOVASCAN紫外臭氧清洗機(jī)

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公司信息

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鄧經(jīng)理
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4008800298
機(jī):
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洪山區(qū)珞獅南路147號未來城A棟
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L2002A3ossila紫外臭氧清洗機(jī)
ossila紫外臭氧清洗機(jī)
參考價(jià) 面議
具體成交價(jià)以合同協(xié)議為準(zhǔn)
  • 型號 L2002A3
  • 品牌 Ossila/歐西拉
  • 廠商性質(zhì) 代理商
  • 所在地 武漢市

更新時(shí)間:2025-05-15 14:05:04瀏覽次數(shù):2882

聯(lián)系我們時(shí)請說明是化工儀器網(wǎng)上看到的信息,,謝謝!

【簡單介紹】
產(chǎn)地類別 進(jìn)口 應(yīng)用領(lǐng)域 電子/電池,綜合
我們所提供的ossila紫外臭氧清洗機(jī)是一種簡單,,經(jīng)濟(jì),,高效的材料表面清洗設(shè)備,。只需把樣品放置到托盤上,,關(guān)上艙門,,設(shè)置時(shí)間,,按下運(yùn)行按鈕,,就可以在幾分鐘內(nèi),,快速去除大多數(shù)無機(jī)基材上的有機(jī)污染物,為您提供超潔凈的表面,。通過使用高功率紫外線光源產(chǎn)生臭氧,,將污染物分解成揮發(fā)性化合物。這些揮發(fā)性化合物從表面蒸發(fā)而*跡,。這種方法可產(chǎn)生接近原子級的清潔表面并且不會損壞樣品,。
【詳細(xì)說明】

ossila紫外臭氧清洗機(jī)應(yīng)用工藝:

•改善表面親水性

•表面清洗

•準(zhǔn)備薄膜沉積

•表面處理

•紫外固化

•表面滅菌消毒

•去除表面單分子膜

•表面氧化

•清洗AFM / STM探針

•清洗光學(xué)元件

 

ossila紫外臭氧清洗機(jī)可清洗的基材示例:

•石英

•硅

•氧化硅

•氮化硅

•金

•鎳

•鋁

•砷化鎵

•礬土

•玻璃

•不銹鋼

 

可去除的污染物示例:

•光刻膠

•樹脂

•人體皮膚油脂

•清洗溶劑的殘留物

•塑料/硅片表面油漬

•助焊劑

 

產(chǎn)品特點(diǎn):

•成本低;

120x120mm樣品臺;

•Z大處理樣品高度為14mm,;

•抽屜式樣品臺,,簡單方便;                                

•樣品臺自安全聯(lián)鎖,,防止對人身傷害,;    

LCD屏顯示“已用時(shí)間"和“剩余時(shí)間";

60分鐘計(jì)時(shí)器,;

•高強(qiáng)度紫外線燈源,;

•可控溫的樣品臺;

•樣品清洗無需溶劑,;

•超凈表面,。

 

紫外氧清洗原理:

紫外臭氧清洗是一種光氧化過程,其中短波紫外線輻射被有機(jī)分子吸收以將其從表面分離  (通過與臭氧分子的化學(xué)反應(yīng)),。這是一種非常好的技術(shù),, 用于清洗基材表面的樹脂,清潔 溶劑的留物,,助焊劑,,油以及表面消毒等,所有這些有機(jī)污染物都會影響樣品表面的性能,。 與其他清技術(shù)(例如氧等離子體處理) 不同,,紫外臭氧清洗不會導(dǎo)致樣品表面損傷。

紫外臭氧系統(tǒng)使用高強(qiáng)度紫外光源,, 185nm 254nm 兩種波長的光照射目標(biāo)表面,。系統(tǒng) 內(nèi)存在的分子氧(O2) 通過波長小于 200 nm 的紫外線輻射分離產(chǎn)生兩個氧自由基(O•)。這 由基中的每一個隨后可以與另外的分子氧反應(yīng)產(chǎn)生臭氧(O3)分子,。未被殘余氧吸收  200nm 以上的 UV 輻射,,會被基材表面上存在的有機(jī)化學(xué)污染物強(qiáng)烈吸收,一旦被吸收,, 這會導(dǎo)致活性或有機(jī)自由基的產(chǎn)生,。這些反應(yīng)性有機(jī)物質(zhì)在與不穩(wěn)定的臭氧分子接觸時(shí),會 導(dǎo)致?lián)]發(fā)性物質(zhì) CO2 ,,H2O ,,N2  和短鏈有機(jī)化合物的形成。這些揮發(fā)性化合物可以很容 從表面上分解吸收,, 保持基材的清潔,。

 

 



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