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邁可諾技術(shù)有限公司

主營(yíng)產(chǎn)品: 美國(guó)Laurell勻膠機(jī),WS1000濕法刻蝕機(jī),Cargille光學(xué)凝膠,EDC-650顯影機(jī),NOVASCAN紫外臭氧清洗機(jī)

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公司信息

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CNI v3.0-200臺(tái)式納米壓印機(jī)
臺(tái)式納米壓印機(jī)
參考價(jià) 面議
具體成交價(jià)以合同協(xié)議為準(zhǔn)
  • 型號(hào) CNI v3.0-200
  • 品牌 其他品牌
  • 廠商性質(zhì) 代理商
  • 所在地 北京市

更新時(shí)間:2025-03-12 10:13:53瀏覽次數(shù):2811

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【簡(jiǎn)單介紹】
桌面納米壓印機(jī),,易于復(fù)制微米和納米級(jí)結(jié)構(gòu)。
納米壓?。岷妥贤饩€)
直徑高達(dá)210mm圓形模板,,帶紫外線
150 * 150mm方片模板,采用熱處理工藝
熱壓印
操作簡(jiǎn)單直觀
用途廣泛
即插即用
專為研發(fā)而設(shè)計(jì)
【詳細(xì)說明】

一,、納米壓印機(jī)的工作原理

納米壓印技術(shù)通過物理壓印的方式,,將模板(模板表面具有納米級(jí)圖案)的微結(jié)構(gòu)轉(zhuǎn)移到目標(biāo)材料表面,主要分為以下兩種主流工藝:

 

1. 熱壓?。═hermal NIL)

步驟:

加熱軟化:將聚合物材料(如PMMA,、SU-8等)加熱至玻璃化轉(zhuǎn)變溫度以上,使其軟化,。

壓印成型:用硬質(zhì)模板(如硅,、石英)在高壓下壓入軟化的聚合物,形成納米結(jié)構(gòu),。

冷卻脫模:降溫固化聚合物后,,分離模板,保留納米圖案,。

特點(diǎn):工藝簡(jiǎn)單,、成本低,但高溫可能限制對(duì)熱敏感材料的應(yīng)用,。

 

2. 紫外光固化壓?。║V-NIL)

步驟:

涂覆光刻膠:在基材表面旋涂紫外光固化膠(低粘度樹脂)。

壓印曝光:用透明模板(如石英)壓合膠層,,同時(shí)紫外光照射固化膠體,。

脫模與刻蝕:分離模板后,通過刻蝕去除殘留膠層,,得到納米結(jié)構(gòu),。

特點(diǎn):室溫操作、分辨率高(可達(dá)<50nm),,適合精密器件制造,。

 

納米壓印優(yōu)勢(shì):

超高分辨率:超越傳統(tǒng)光刻的物理衍射極限。

低成本:無需復(fù)雜光學(xué)系統(tǒng),,適合大面積圖案化,。

材料兼容廣:可加工金屬、聚合物,、玻璃等多種基材,。

 

 

二,、納米壓印機(jī)技術(shù)特點(diǎn)

    CNI v3.0系列納米壓印機(jī)是一款專為實(shí)驗(yàn)室開發(fā)的即插即用,兼具熱壓印和紫外壓印兩種功能,,而且可以快速的實(shí)現(xiàn)真空環(huán)境下的壓印,。UV蓋和連接器的壓印腔室,控制模塊,,用于自動(dòng)控制壓印過程(壓力,,溫度,UV曝光等),,壓印室可實(shí)現(xiàn)真空兼容,,低至1mbar。

★1.1承載基片:≤210mm的各種基片,,高度20mm,;

1.2壓印真空度:1mbar;

1.3加熱溫度:最高溫度250℃,;

1.4最大壓力:≥5bar,;

1.5 UV波長(zhǎng):4個(gè)組合的LED光源,波長(zhǎng)365nm,,組合光的功率可達(dá)到11.6W,,LED光源的溫度被實(shí)時(shí)檢測(cè),擁有過熱保護(hù)功能,;

1.6 UV最大功率:≥11,600mW

1.7 印章載體:1個(gè)可更換的直徑為210 mm的加熱元件,,還可以用作壓印腔中的印模承載平臺(tái),能夠在高達(dá)250℃的溫度下進(jìn)行熱壓??;

1.8 壓印軟件:運(yùn)行CNI 軟件,該軟件控制壓印過程中的所有內(nèi)容(壓力,,溫度,,紫外線照射,時(shí)間等)

 

三,、納米壓印機(jī)的應(yīng)用

納米壓印技術(shù)憑借其高分辨率和低成本特性,,廣泛應(yīng)用于以下領(lǐng)域:

 

1.半導(dǎo)體與集成電路

制造高密度存儲(chǔ)芯片(如NAND閃存、MRAM),。

光子集成電路(如硅光器件,、光柵耦合器),。

優(yōu)勢(shì):替代傳統(tǒng)EUV光刻,,降低優(yōu)良制程成本。

 

2.光學(xué)器件與顯示技術(shù)

增強(qiáng)現(xiàn)實(shí)(AR)衍射光波導(dǎo),。

液晶顯示(LCD)導(dǎo)光板微結(jié)構(gòu),。

超表面透鏡(Metalens)的納米天線陣列,。

優(yōu)勢(shì):實(shí)現(xiàn)復(fù)雜光學(xué)結(jié)構(gòu)的低成本批量生產(chǎn)。

 

3.生物醫(yī)學(xué)與傳感器

微流控芯片(Lab-on-a-Chip)的納米通道,。

表面增強(qiáng)拉曼散射(SERS)基底,。

生物分子檢測(cè)的納米孔陣列。

優(yōu)勢(shì):高精度結(jié)構(gòu)提升檢測(cè)靈敏度與特異性,。

 

4.新能源與柔性電子

鈣鈦礦太陽(yáng)能電池的納米陷光結(jié)構(gòu),。

柔性電子(如可穿戴傳感器)的導(dǎo)電圖案。

透明導(dǎo)電膜(如銀納米線網(wǎng)格),。

優(yōu)勢(shì):兼容柔性基材(PET,、PI),支持卷對(duì)卷(R2R)工藝,。

 

5.防偽與裝飾

包裝的全息防偽標(biāo)簽,。

奢侈品表面的納米紋理裝飾(如抗指紋、啞光效果),。

優(yōu)勢(shì):微結(jié)構(gòu)可定制化,,難以復(fù)制。




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