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邁可諾技術(shù)有限公司
主營產(chǎn)品： 美國Laurell勻膠機,WS1000濕法刻蝕機,Cargille光學(xué)凝膠,EDC-650顯影機,NOVASCAN紫外臭氧清洗機 |
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更新時間：2025-03-12 10:56:49瀏覽次數(shù)：3445
聯(lián)系我們時請說明是化工儀器網(wǎng)上看到的信息,，謝謝!
一,、PL400/PL600納米壓印機技術(shù)特點：
? 全晶圓壓印 - PL600適用于6英寸晶圓處理, PL400適用于4英寸晶圓處理
? 低于10納米分辨率,，產(chǎn)率高達(dá)99％
? 一步自動釋放功能，可防止分離過程中模具/基材損壞,，使壓印產(chǎn)量增大
? 支持各種類型的硬模和軟模
? 可變模具和基材尺寸,，靈活方便
? 可編程PLC，通過自定義參數(shù)進(jìn)行過程控制,，帶觸摸屏用戶界面
? 對準(zhǔn)功能選項
? 多種工藝,，適用于各種應(yīng)用光學(xué)器件，顯示器,，數(shù)據(jù)存儲,，生物醫(yī)學(xué)器件，半導(dǎo)體IC,，化學(xué)合成和*材料等
? 專有的紫外線固化納米壓印抗蝕劑對硬度或厚度沒有限制,，并且與傳統(tǒng)的光刻工藝兼容
本納米壓印是一個獨立的納米壓印機包括自動釋放™功能的納米壓印模塊和自動壓印控制器。程序控制,，用戶可自由設(shè)置工藝參數(shù),，晶圓與模板由真空卡盤固定，兼容傳統(tǒng)的UV固化壓印膠工藝,，可以快速的實現(xiàn)真空環(huán)境下的壓印,。可以處理各種不同形狀,、滿足直徑100mm的模版和基片處理,。只需要手動裝入和取出模板和基片，其余的操作都是自動化進(jìn)行,，同時附帶軟件還提供了詳細(xì)的參數(shù)設(shè)置,。
二、PL400/PL600納米壓印機技術(shù)參數(shù)
1.1模版尺寸：4/6英寸,，兼容1~4/6英寸圓片和不規(guī)則的材料,；
*1.2基底尺寸：4/6英寸，兼容1~4/6英寸圓片和不規(guī)則的材料,；
1.3壓印模式：硬壓印和軟壓?。?/span>
*1.4壓印分辨率：小于10nm,；
1.5壓印壓力：14 psi -17psi,，可編程；
1.6壓印區(qū)域：最大4英寸的基底材料,；
1.7模版：內(nèi)置自動分離模版功能,；
1.8對準(zhǔn)精度：1μm,，取決于工藝；
1.9程序控制：PLC程序控制,，壓印時間和壓力可編程,；
1.10對準(zhǔn)和移動范圍：X，Y和Z+/- 5mm,，?:+/- 5°;
*1.11曝光系統(tǒng)：LED紫外線曝光,，波長395nm，覆蓋9“x 9"區(qū)域,，強度可編程,，最大≥50mW/cm2，曝光時間也可編程,；
三,、納米壓印機的應(yīng)用
納米壓印技術(shù)憑借其高分辨率和低成本特性，廣泛應(yīng)用于以下領(lǐng)域：
1.半導(dǎo)體與集成電路
制造高密度存儲芯片（如NAND閃存,、MRAM）,。
光子集成電路（如硅光器件、光柵耦合器）,。
優(yōu)勢：替代傳統(tǒng)EUV光刻,，降低優(yōu)良制程成本。
2.光學(xué)器件與顯示技術(shù)
增強現(xiàn)實（AR）衍射光波導(dǎo),。
液晶顯示（LCD）導(dǎo)光板微結(jié)構(gòu)。
超表面透鏡（Metalens）的納米天線陣列,。
優(yōu)勢：實現(xiàn)復(fù)雜光學(xué)結(jié)構(gòu)的低成本批量生產(chǎn),。
3.生物醫(yī)學(xué)與傳感器
微流控芯片（Lab-on-a-Chip）的納米通道。
表面增強拉曼散射（SERS）基底,。
生物分子檢測的納米孔陣列,。
優(yōu)勢：高精度結(jié)構(gòu)提升檢測靈敏度與特異性。
4.新能源與柔性電子
鈣鈦礦太陽能電池的納米陷光結(jié)構(gòu),。
柔性電子（如可穿戴傳感器）的導(dǎo)電圖案,。
透明導(dǎo)電膜（如銀納米線網(wǎng)格）。
優(yōu)勢：兼容柔性基材（PET,、PI）,，支持卷對卷（R2R）工藝。
5.防偽與裝飾
包裝的全息防偽標(biāo)簽,。
奢侈品表面的納米紋理裝飾（如抗指紋,、啞光效果）。
優(yōu)勢：微結(jié)構(gòu)可定制化,，難以復(fù)制,。
