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邁可諾技術(shù)有限公司
主營產(chǎn)品： 美國Laurell勻膠機(jī),WS1000濕法刻蝕機(jī),Cargille光學(xué)凝膠,EDC-650顯影機(jī),NOVASCAN紫外臭氧清洗機(jī) |
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| 參考價(jià) | ￥60-￥100 | /臺(tái) |
更新時(shí)間：2025-03-11 15:35:47瀏覽次數(shù)：2436
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| 價(jià)格區(qū)間 | 50萬-100萬 | 應(yīng)用領(lǐng)域 | 醫(yī)療衛(wèi)生,化工,生物產(chǎn)業(yè),電子/電池 |
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原子層沉積系統(tǒng)（Atomic Layer Deposition,，簡(jiǎn)稱ALD）是一種優(yōu)良的薄膜沉積技術(shù),，通過在基底表面逐層沉積原子級(jí)厚度的材料來制備高質(zhì)量、高均勻性的薄膜,。它以其精準(zhǔn)的厚度控制,、優(yōu)異的保形性（對(duì)復(fù)雜三維結(jié)構(gòu)的覆蓋能力）和低溫沉積特性而著稱。
一,、原子層沉積系統(tǒng)技術(shù)參數(shù)：
1.腔體材質(zhì)：全鋁鋁質(zhì)腔體,；
2.樣品臺(tái)尺寸：處理最大直徑4英寸樣品；
3.基片加熱溫度：室溫~315℃±1℃,；
4.液體源：一路高蒸氣壓液體氧化劑（H2O或H2O2）,，3路固體或液體金屬源；
5.可變過程壓力控制0.1至1.5Torr,；
6.ALD閥：Swagelok快速高溫ALD專用閥,；
7.載氣系統(tǒng)：N2，壓力30Psi,；
8.生長模式：連續(xù)和停留沉積模式任意選擇,；
9.控制系統(tǒng)：16位7英寸彩色觸摸屏PLC操作控制；
10.4個(gè)世偉洛克熱敏ALD閥門,；
11.5個(gè)高溫劑量容積填充閥,；
12.帶輔助彎頭加熱器的保形加熱套，操作溫度室溫至150℃；
13.帶閥門的50ccSS前體瓶,，波紋管密封高溫兼容閥;
14.Fujikin金屬密封,，200sccmMFC流量質(zhì)量控制器，用于N2或Ar吹掃流量控制,；
15.基于雙溫探頭的腔室加熱器控制系統(tǒng)和探頭故障保險(xiǎn),；
16.OEM 2級(jí)旋轉(zhuǎn)葉片泵，抽速18 cfm,，極限真空3mtorr,，包括Flomblin用于PFPE油；
二,、原子層沉積系統(tǒng)技術(shù)特點(diǎn)
精準(zhǔn)控制：薄膜厚度可精確至亞納米級(jí)（0.1 ?/cycle）,，重復(fù)性誤差<1%。
高均勻性：在復(fù)雜3D結(jié)構(gòu)（如納米線,、多孔材料）表面實(shí)現(xiàn)均勻覆蓋,。
低溫工藝：部分機(jī)型支持室溫至300℃以上，范圍沉積,，兼容熱敏感基材（如聚合物,、生物材料）。
前驅(qū)體兼容性：支持金屬有機(jī)化合物,、鹵化物,、等離子體增強(qiáng)（PEALD）等多種反應(yīng)模式。
原位監(jiān)測(cè)：集成石英晶體微天平（QCM）,、橢偏儀或光學(xué)反射儀,，實(shí)時(shí)監(jiān)控薄膜生長。
三,、原子層沉積系統(tǒng)應(yīng)用領(lǐng)域
半導(dǎo)體制造：高介電材料（HfO?,、Al?O?）、晶體管柵極,、DRAM電容薄膜,。
新能源：鋰離子電池電極包覆層、燃料電池催化劑涂層,。
光電子器件：OLED封裝層,、光伏器件鈍化層。
納米技術(shù)：量子點(diǎn)涂層,、MEMS器件防水/防腐蝕膜,。
生物醫(yī)療：生物傳感器表面功能化、植入器械抗菌涂層,。
3.1半導(dǎo)體工業(yè)
原子層沉積系統(tǒng)在半導(dǎo)體制造中應(yīng)用廣泛,，尤其是在集成電路（IC）和微電子器件的生產(chǎn)中,。隨著器件尺寸不斷縮小至納米級(jí)，ALD能夠沉積超薄且均勻的高介電常數(shù)（high-k）材料（如HfO?,、Al?O?）作為柵極絕緣層,，替代傳統(tǒng)的SiO?。此外,，它還用于沉積金屬（如鎢,、銅）作為導(dǎo)電層或阻擋層，確保器件性能的穩(wěn)定性和可靠性,。
3.2光電子與顯示技術(shù)
原子層沉積系統(tǒng)在光電子領(lǐng)域,，ALD被用于制備光學(xué)薄膜（如抗反射涂層）和透明導(dǎo)電氧化物（如ZnO、ITO）,，廣泛應(yīng)用于太陽能電池,、LED和OLED顯示屏。例如,，ALD可以沉積鈍化層（如Al?O?）以提高太陽能電池的效率,，或制備保護(hù)層延長器件壽命。
3.3能源存儲(chǔ)與轉(zhuǎn)換
原子層沉積系統(tǒng)在電池和燃料電池領(lǐng)域也有重要應(yīng)用,。例如,，在鋰離子電池中，ALD可用于沉積電極表面的保護(hù)層,，防止電解質(zhì)腐蝕并提高循環(huán)穩(wěn)定性。在催化劑制備中,，ALD能夠精確調(diào)控催化劑顆粒的大小和分布,，提升能源轉(zhuǎn)換效率。
3.4生物醫(yī)學(xué)
原子層沉積系統(tǒng)技術(shù)可用于制備生物相容性涂層,，應(yīng)用于醫(yī)療器械（如植入物,、支架）的表面改性。例如,，通過沉積TiO?或ZrO?薄膜,，可以增強(qiáng)器械的耐腐蝕性和生物相容性，同時(shí)減少感染風(fēng)險(xiǎn),。
3.5納米技術(shù)
原子層沉積系統(tǒng)是制備納米結(jié)構(gòu)（如納米管,、納米線）和二維材料（如石墨烯、過渡金屬二硫化物）的關(guān)鍵技術(shù),。它能夠?qū)崿F(xiàn)原子級(jí)精度的表面改性,，廣泛應(yīng)用于傳感器、納米電子器件和量子計(jì)算研究,。
3.6其他工業(yè)應(yīng)用
防護(hù)涂層：ALD可沉積耐腐蝕,、耐磨損的薄膜,，用于航空航天、汽車零件等領(lǐng)域,。
MEMS/NEMS：在微納機(jī)電系統(tǒng)（MEMS/NEMS）中,，ALD用于制備功能層或犧牲層。
四,、目前可以沉積的材料包括：
1）氧化物: Al2O3, TiO2, Ta2O5, ZrO2, HfO2, SnO2, ZnO, La2O3, V2O5, SiO2
2）氮化物: AlN, TaNx, NbN, TiN, MoN, ZrN, HfN, GaN
3）氟化物: CaF2, SrF2, ZnF2
4）金屬: Pt, Ru, Ir, Pd, Cu, Fe, Co, Ni
5）碳化物: TiC, NbC, TaC
6）復(fù)合結(jié)構(gòu)材料: AlTiNx, AlTiOx, AlHfOx, SiO2:Al, HfSiOx
7）硫化物: ZnS, SrS, CaS, PbS
