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邁可諾技術(shù)有限公司

主營產(chǎn)品: 美國Laurell勻膠機(jī),WS1000濕法刻蝕機(jī),Cargille光學(xué)凝膠,EDC-650顯影機(jī),NOVASCAN紫外臭氧清洗機(jī)

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公司信息

聯(lián)人:
鄧經(jīng)理
話:
4008800298
機(jī):
13681069478
真:
址:
洪山區(qū)珞獅南路147號未來城A棟
編:
化:
www.mycro.net.cn
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www.mycro.cn
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PlasmaStar 100/100 RIE反應(yīng)離子刻蝕機(jī)PlasmaStar 100
反應(yīng)離子刻蝕機(jī)PlasmaStar 100
參考價 面議
具體成交價以合同協(xié)議為準(zhǔn)
  • 型號 PlasmaStar 100/100 RIE
  • 品牌 其他品牌
  • 廠商性質(zhì) 代理商
  • 所在地 北京市

更新時間:2024-05-16 16:47:05瀏覽次數(shù):6761

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【簡單介紹】
產(chǎn)地類別 進(jìn)口 價格區(qū)間 面議
應(yīng)用領(lǐng)域 電子/電池
反應(yīng)離子刻蝕機(jī)PlasmaStar 100儀器介紹
PlasmaSTAR®系列等離子處理系統(tǒng)適合處理所有的材料,,擁有多種腔室和電極配置,,可滿足不同的等離子工藝和基片尺寸,。占地面積小,用于各種等離子工藝的模塊化腔室和電極配置,。此外,,觸摸屏計算機(jī)控制,多級程序控制和組件控制,,操作簡單,。PlasmaSTAR®模塊化腔室和電極組件是該系統(tǒng)的*功能。
【詳細(xì)說明】

腔室材料是硬質(zhì)陽極氧化鋁,, 有幾種不同的電極設(shè)計,,包括用于反應(yīng)離子刻蝕(RIE)和平面處理的水冷平板電極,用于表面清洗或處理的交替多層托盤電極,,用于小化離子損傷的下游電極,,和用于普通的圓柱形籠式電極。

1,、腔體尺寸:直徑≥200mm,,深度≥280mm

2,、腔體材質(zhì):硬質(zhì)陽極氧化鋁矩形腔體,;

3、處理腔背面材質(zhì):鋁,;

4,、處理腔門:要求全自動腔門;

5、兩路工藝氣體,,≥2路質(zhì)量流量控制器控制氣體流量,,氣體輸入腔室?guī)蛄髟O(shè)計;

6,、射頻功率:0~600W連續(xù)可調(diào),,13.56MHz,自動匹配,,自然風(fēng)冷,;

7、配備RIE平面水冷平板電極,;

8,、7英寸及以上顯示器、觸摸屏,、圖形用戶界面,; 

9、程序控制:觸摸屏電腦控制,,無線程序存儲,;

10Windows操作系統(tǒng),,兼容Windows office軟件,,USB接口,可進(jìn)行外部電腦遠(yuǎn)程控制的功能,;

11,、狀態(tài)和出錯信息提示,過程數(shù)據(jù)和出錯信息存儲,,可選擇自動和手動操作模式,,過程數(shù)據(jù)可以導(dǎo)出,工藝參數(shù)以圖形方式呈現(xiàn),,可實(shí)時監(jiān)控,,自動實(shí)現(xiàn)泄露檢測;

12,、配套緊急急停按鈕(EMO),,配套電路斷路器,機(jī)械聯(lián)鎖(門傳感器)和真空聯(lián)鎖(壓力開關(guān)),,通過軟件可進(jìn)行遠(yuǎn)程的真空聯(lián)鎖,;

13、典型的光刻膠刻蝕速率:80nm/min,;

14,、典型工藝均勻性:≥±10%,;

 



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