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多弧離子鍍與磁控濺射,,蒸發(fā)鍍之間的區(qū)別

時間:2009/7/29閱讀:15066
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多弧離子鍍與磁控濺射,,蒸發(fā)鍍之間的區(qū)別(轉(zhuǎn)載自光學在線)

 
是轉(zhuǎn)載的說法,,有不對的地方請擔待并指正,。三者的區(qū)別在于工作原理不同

蒸發(fā)鍍:通過蒸發(fā)鍍加熱使膜材蒸發(fā)。蒸發(fā)鍍有電阻加熱式、電子束加熱式,、感應加熱式,。

磁控濺射鍍:磁控靶是靜止電磁場,磁場為曲線形,,以磁場改變電子運動方向,,是展于高密度的等離子體異常輝光放電。其特點是濺射能量低,,基本溫度低,。

多弧離子鍍:多弧靶是電弧蒸發(fā)源,是冷陰極電弧放電型自持自離化的固體蒸發(fā)源,。其特點是離子能量高,,沉積速率高,膜層改密性高,,單固性好,。

蒸發(fā)鍍主要做玻璃和塑膠,俺不懂,,毛主席老人家說得好,,沒有調(diào)查就沒有發(fā)言權(quán).在此說說磁控和多弧
磁控能對多種金屬進行濺射,膜厚和顏色比較容易控制,,膜層顆粒細能滿足良好外觀要求.沉積時間較長,,膜層耐磨性不如多弧.
多弧的優(yōu)點就是磁控的缺陷,,還有就是對有些靶材鍍出來外觀效果不理想如金,,不銹鋼等
不過二者結(jié)合起來用的也大有人在.

塑膠產(chǎn)品CPC或ABS材料表面裝飾性鍍膜,若要單固性好些就要采用磁控濺射鍍,;若要表面光亮些就有蒸發(fā)鍍

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