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美國英?？礕uardian EIES 高精度控制器,可將沉積速度控制在 0.1 到 10,000 Å/s 范圍內(nèi),。它可以操作一個或兩個傳感器,，至多 8...

IC/6具有寬廣的功能，它可啟動抽空過程,、控制閥門,、啟用基片加熱器等,。這些增強的功能使系統(tǒng)無需配備輔助儀器，從而降低系統(tǒng)的復雜性和成本,。IC/6的邏輯與控制功能...

多用途的IC/5 膜厚控制儀 理想地適用于控制多源、多坩堝,、多材料或多過程系統(tǒng)的膜層沉積速率和膜厚,。IC/5可滿足即使Z復雜、Z高要求與特殊應用的需要,。它擅長于...

Cygnus 2薄膜沉積控制器在INFICON薄膜沉積控制器可靠成熟的性能基礎上,，增添了更多不一般的功能，可幫助您實現(xiàn)OLED過程的*大價值,。Cygnus 2 ...

膜厚控制儀 INFICON, 薄膜鍍層控制技術的*者,，現(xiàn)在為您提供高生產(chǎn)價值和低擁有成本的*儀器。 無論您需要控制產(chǎn)品的合格性,，或是用于科研項目,。INFICON...

膜厚控制儀普及的多層鍍膜控制儀INFICON SQC310 系列為您提供其它生產(chǎn)廠薄膜控制儀所沒有的性能與特色. 同時可為您的應用選擇理想的模式: 順序鍍膜（S...