基片尺寸：4,、6、8,、12,、25英寸,，其他要求支持；

光束均勻性：<±3%,；

曝光時間可調(diào)范圍：0.1 to 999.9秒,；

對準精度：1微米，zui高0.5微米,；

分辨率：1微米,；

光束輸出強度：15-25mW/cm2；

光源強度可控,；

紫外,、深紫外曝光；

系統(tǒng)控制：手動,、半自動和全自動控制,；

曝光模式：真空接觸模式（接觸力可調(diào)），Proximity靠近模式, 投影模式,；

真空吸盤范圍可調(diào),；

技術(shù)：雙面對準！

雙重顯微鏡系統(tǒng),，zui大放大1600倍,；

又名：掩膜對準曝光機，曝光系統(tǒng),，光刻系統(tǒng),，光刻機等；

的半導(dǎo)體設(shè)備供應(yīng)商,，多年來致力于掩膜對準光刻機和勻膠機研發(fā)與生產(chǎn),，并且廣泛應(yīng)用于半導(dǎo)體、微電子,、生物器件和納米科技領(lǐng)域,；該公司是目前世界上zui早將商品化的公司之一，擁有雄厚的技術(shù)研發(fā)力量和設(shè)備生產(chǎn)能力,；并且其設(shè)備被眾多*企業(yè),、研發(fā)中心、研究所和高校所采用,；依優(yōu)秀的技術(shù),、*的工藝和良好的服務(wù)，贏得了用戶的青睞,。

相關(guān)設(shè)備：

甩膠機,，甩膜機，涂膠機,，旋轉(zhuǎn)涂膜機,，勻膜機,，清洗機，顯影機等,；