基片尺寸：4,，6,，8，12英寸,；

時間設(shè)定范圍：1~999秒,；

轉(zhuǎn)速范圍：100rpm~8000rpm(1%)；

應(yīng)用：勻膠,，甩膠,，涂膠，涂膜等,；

控制方式：手動控制,，數(shù)字程序化控制和觸摸屏控制；

真空性能：專業(yè)Oilless Vac & pressure Pump,；

*,；

又名：甩膠機(jī),甩膜機(jī),涂膠機(jī),旋轉(zhuǎn)涂膜機(jī),勻膜機(jī)等；

的半導(dǎo)體設(shè)備供應(yīng)商，多年來致力于掩膜對準(zhǔn)光刻機(jī)和勻膠機(jī)研發(fā)與生產(chǎn),，并且廣泛應(yīng)用于半導(dǎo)體,、微電子、生物器件和納米科技領(lǐng)域,；該公司是目前世界上zui早將光刻機(jī)商品化的公司之一,，擁有雄厚的技術(shù)研發(fā)力量和設(shè)備生產(chǎn)能力；并且其設(shè)備被眾多*企業(yè),、研發(fā)中心,、研究所和高校所采用；依優(yōu)秀的技術(shù),、*的工藝和良好的服務(wù)，贏得了用戶的青睞,。

相關(guān)產(chǎn)品：

掩模對準(zhǔn)曝光系統(tǒng) / 光刻機(jī)（紫外/深紫外）：手動或自動化控制,，基片尺寸4、6,、8,、12、25英寸,，光束均勻性3%,，對準(zhǔn)精度zui高0.5微米；結(jié)合專業(yè)的楔形誤差補(bǔ)償技術(shù),，使得加工工藝更為完善,；