Wafer溫度實時檢測裝置
- 公司名稱 巨力科技有限公司
- 品牌
- 型號
- 產(chǎn)地 美國
- 廠商性質(zhì) 經(jīng)銷商
- 更新時間 2017/7/21 11:14:48
- 訪問次數(shù) 1009
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可控環(huán)境型微納米力學(xué)測試系統(tǒng),超納米壓痕儀,納米壓痕儀,動態(tài)超顯微硬度計,超顯微硬度計,納米硬度計,納米劃痕儀,顯微劃痕儀,大載荷劃痕儀,納米摩擦儀,摩擦儀,摩擦試驗機,高溫摩擦試驗機,真空摩擦試驗機,膜厚儀,球磨儀,高精度臺階儀,三維微納米輪廓儀,原子力顯微鏡,,薄膜應(yīng)力測量儀,全息顯微鏡,,激光測振儀,,激光干涉儀,激光測速儀,,光譜型橢偏儀,,掃描霍爾探針顯微鏡,精密d33測試儀,,薄膜d33測試儀,,高溫介電測量系統(tǒng),表面等離子體共振儀,,激光拉曼顯微鏡PCT測試儀,,碳納米制備系統(tǒng),原子層沉積系統(tǒng),,電子束蒸發(fā)系統(tǒng)熱蒸發(fā)系統(tǒng)超高真空蒸發(fā)系統(tǒng)磁控濺射系統(tǒng)分子束外延系統(tǒng) MBE有機分子束沉積 OMBD等離子增強化學(xué)氣相淀積系統(tǒng) PECVD電子回旋共振等離子體增強化學(xué)氣相沉積 ECR-PECVD低能離子減薄儀,,離子減薄儀,,拋光機,精密切片機,,微熱臺
技術(shù)參數(shù)
zui大溫度范圍:室溫~1300攝氏度,; 溫度重復(fù)性:0.2攝氏度; 溫度分辨率:0.1攝氏度,; 穩(wěn)定性:+/-0.2攝氏度,; | ||
主要特點
*實時、非接觸,、非入侵,、直接的Wafer溫度精確檢測; *Wafer表面2D溫度Mapping,; *zui真實的Wafer表面或薄膜溫度檢測,; *沉積速率分析; *測量激光波長范圍可選(例如:可見光波段,、近紅外波段等) *避免了發(fā)射率變化對測量的影響,; *無需沉積設(shè)備Viewport特殊涂層; | ||
*的半導(dǎo)體溫度測量裝置,,對Wafer(及薄膜)表面溫度實時,、非接觸、非入侵,、zui直接的檢測,;采用溫度和半導(dǎo)體材料對光的吸收邊沿(頻帶能量)相關(guān)性原理,即材料的本征特性,,使得測量結(jié)果更為準(zhǔn)確,;可裝載到MBE、MOCVD,、濺射,、蒸發(fā)系統(tǒng)等和熱處理、退火設(shè)備上,,進(jìn)行實時溫度檢測,。 |