化工儀器網(wǎng)>產(chǎn)品展廳>實(shí)驗(yàn)室常用設(shè)備>其它實(shí)驗(yàn)室常用設(shè)備>涂布機(jī)> 日本武藏武藏FAD2500SD600點(diǎn)/分鐘高速點(diǎn)膠
日本武藏武藏FAD2500SD600點(diǎn)/分鐘高速點(diǎn)膠
- 公司名稱 成都藤田光學(xué)儀器有限公司
- 品牌 MUSASHI/武藏
- 型號(hào)
- 產(chǎn)地 日本
- 廠商性質(zhì) 代理商
- 更新時(shí)間 2025/6/28 11:55:21
- 訪問(wèn)次數(shù) 17
聯(lián)系方式:付經(jīng)理17780519478 查看聯(lián)系方式
聯(lián)系我們時(shí)請(qǐng)說(shuō)明是化工儀器網(wǎng)上看到的信息,謝謝!
日本HOYA豪雅(UV固化燈,玻璃鏡片),,日本MUSASHI武藏(點(diǎn)膠機(jī)),,日本KANOMAX加野(粒子計(jì)數(shù)風(fēng)速儀),日本FLUORO福樂(lè)(用于晶圓的搬 運(yùn)),,日本AND艾安得(電子天平)
產(chǎn)地類別 | 進(jìn)口 |
---|
日本武藏武藏FAD2500SD600點(diǎn)/分鐘高速點(diǎn)膠
日本武藏武藏FAD2500SD600點(diǎn)/分鐘高速點(diǎn)膠
技術(shù)架構(gòu)與核心性能
采用日本武藏Mu SKY Capture視覺(jué)定位系統(tǒng),,實(shí)現(xiàn)600點(diǎn)/分鐘高速噴射與±1%重復(fù)精度(行業(yè)高水平),通過(guò)DDM動(dòng)態(tài)黏度管理技術(shù)適配500Kcps超高粘度流體(如導(dǎo)電銀漿,、環(huán)氧樹(shù)脂),。0.01mm3微量控制能力滿足半導(dǎo)體封裝芯片級(jí)點(diǎn)膠需求,搭配五軸聯(lián)動(dòng)機(jī)械臂可實(shí)現(xiàn)復(fù)雜曲面軌跡涂布,,重復(fù)定位精度達(dá)±0.002mm,。
創(chuàng)新功能模塊
無(wú)停頓生產(chǎn)系統(tǒng):雙機(jī)械臂交替維護(hù)與一鍵式頭部快換設(shè)計(jì),故障停機(jī)時(shí)間縮減80%,,年產(chǎn)能提升30%,;
智能閉環(huán)控制:
DVM機(jī)能實(shí)時(shí)監(jiān)測(cè)涂布量并自動(dòng)補(bǔ)償,消除人工干預(yù)誤差,;
MCD技術(shù)通過(guò)博伊德算法生成無(wú)斷點(diǎn)"葉線"涂布模式,,適用于動(dòng)力電池極片涂覆;
模塊化擴(kuò)展:支持8種點(diǎn)膠頭快速切換,,兼容從0.3mm微針頭到5mm寬幅噴嘴的全場(chǎng)景需求,。
行業(yè)解決方案
半導(dǎo)體封裝:在WLP/PLP工藝中實(shí)現(xiàn)行業(yè)最小KOZ(Keep Out Zone)涂布,,晶圓級(jí)封裝良率達(dá)99.2%;
醫(yī)療設(shè)備:Class 5潔凈標(biāo)準(zhǔn)適配無(wú)菌環(huán)境,,精準(zhǔn)控制生物膠水用量(誤差±0.1μl),;
消費(fèi)電子:通過(guò)AI路徑優(yōu)化算法,將手機(jī)中框點(diǎn)膠周期從12秒縮短至7秒,,年節(jié)約成本超50萬(wàn)元/臺(tái),。
經(jīng)濟(jì)效益分析
對(duì)比傳統(tǒng)點(diǎn)膠設(shè)備,F(xiàn)AD2500SD通過(guò)急速JET機(jī)能提升50%生產(chǎn)效率,,動(dòng)態(tài)壓力補(bǔ)償減少膠水浪費(fèi)28%,,標(biāo)準(zhǔn)化配件體系降低維護(hù)成本35%。設(shè)備支持SECS/GEM協(xié)議無(wú)縫對(duì)接MES系統(tǒng),,實(shí)現(xiàn)生產(chǎn)數(shù)據(jù)全生命周期追溯,。