日本武藏雙液非接觸式JET點膠機DUAL JET

日本武藏雙液非接觸式JET點膠機DUAL JET

技術(shù)革新概述

DUAL JET雙液噴射點膠系統(tǒng)是面向化學反應(yīng)型粘合劑開發(fā)的第四代工業(yè)涂布設(shè)備，通過飛行混合(Flight Mixing)技術(shù)突破傳統(tǒng)雙液點膠工藝瓶頸,。該系統(tǒng)采用非接觸式雙流道噴射架構(gòu),，使AB雙組分粘合劑在距基板5-15mm的空中完成瞬時撞擊混合，消除了混合腔體結(jié)構(gòu)，實現(xiàn)全球"零清洗,、零殘留"的雙液涂布解決方案,。

核心工藝優(yōu)勢

1. 免維護混合機制
   傳統(tǒng)設(shè)備因混合部固化殘留需頻繁停機清洗（平均每2小時/次），本設(shè)備通過V/I構(gòu)型動態(tài)噴頭實現(xiàn)：

• V模式：雙液45°角對射形成反應(yīng)區(qū),，適用于高粘度材料（≤50,000cps）

• I模式：同軸層流疊加混合,，支持3D曲面跟隨涂布
  實測顯示可降低92%維護工時，年節(jié)約清洗劑成本超18萬元（按300天/年計）

2. 亞微升級控膠精度
   配備壓電陶瓷驅(qū)動閥組,，單點最小吐膠量0.001ml（±3% CV）,，配合0.5μm分辨率線性模組，實現(xiàn)：

• 半導體封裝：芯片底部填充膠縫控制≤50μm

• 動力電池：極耳涂布速度達120mm/s（膠寬誤差±0.1mm）

3. 智能生產(chǎn)集成
   通過OPC UA協(xié)議與機械臂協(xié)同,，支持：

• 動態(tài)路徑補償（適應(yīng)±0.2mm工件公差）

• 流量-速度自適應(yīng)算法（R=0.99線性相關(guān)）

• 工藝數(shù)據(jù)庫存儲200組配方參數(shù)

工業(yè)驗證數(shù)據(jù)

在新能源電池模組PACK線實測中（2024Q3）：

• 材料利用率100%（傳統(tǒng)工藝損耗率15-20%）

• 切換時間從45分鐘縮短至3分鐘（配方自動調(diào)用）

• 百萬點膠缺陷率≤12ppm（ISO 2859-1標準）

典型應(yīng)用場景

• 半導體：Chiplet異構(gòu)封裝underfill

• 新能源：4680電池密封膠連續(xù)涂布

• 光學：VR透鏡雙組分光學膠貼合